SiC-కోటెడ్ గ్రాఫైట్ వేఫర్ క్యారియర్స్

సెమికోరెక్స్ SiC-కోటెడ్ గ్రాఫైట్ పొర క్యారియర్‌లు, అధిక-పనితీరు గల పొర మోసే భాగాలు, అధునాతన మెటల్-ఆర్గానిక్ రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ పరికరాలలో పొర ఎపిటాక్సియల్ పెరుగుదల కోసం రూపొందించబడ్డాయి. Semicorexతో భాగస్వామ్యంతో, మీరు స్థిరమైన పనితీరు, పోటీ ధర మరియు ఆలోచనాత్మకమైన సేవను ఆనందిస్తారు.

విచారణ పంపండి

ఉత్పత్తి వివరణ

సెమీకండక్టర్ వేఫర్ ఫాబ్రికేషన్‌లో, పొర ఉపరితలంపై ఎప్టాక్సియల్ పొరను పెంచాలి, తద్వారా సెమీకండక్టర్ పరికరాలను తదుపరి దశల్లో తయారు చేయవచ్చు. పొర సబ్‌స్ట్రేట్‌ను నేరుగా సంప్రదించే వేఫర్ ఎపిటాక్సియల్ ప్రక్రియలో అనివార్యమైన వినియోగ అంశంగా, SiC-కోటెడ్ గ్రాఫైట్ పొర క్యారియర్‌ల పనితీరు ఎపిటాక్సియల్ మెటీరియల్ పెరుగుదల యొక్క ఏకరూపత మరియు స్వచ్ఛతపై గణనీయమైన ప్రభావాన్ని చూపుతుంది. ఈ కారణంగా, వినియోగదారులు సరైన SiC-కోటెడ్ గ్రాఫైట్ వేఫర్ క్యారియర్‌ని ఎంచుకోవడం చాలా కీలకం.

వేఫర్ క్యారియర్‌ల స్థావరాన్ని తయారు చేయడానికి మరియు యూనిఫాంను ఉపయోగించుకోవడానికి అధిక-స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్‌ను స్వీకరించడంCVD SiC పూతపొర క్యారియర్‌కు "రక్షిత కవచం" ఇవ్వడానికి, సెమికోరెక్స్ అధిక-నాణ్యత గల SiC-కోటెడ్ గ్రాఫైట్ పొర క్యారియర్‌ను అందించడానికి అంకితం చేయబడింది, ఇది పొర ఉపరితలాలకు సవాలు చేసే ఎపిటాక్సియల్ ప్రక్రియలలో నమ్మకమైన నిర్మాణ మద్దతును అందించగలదు, తద్వారా ఎపిటాక్సియల్ మెటీరియల్‌ల స్థిరమైన మరియు నమ్మదగిన వృద్ధిని నిర్ధారిస్తుంది.

1. ప్రీమియం గ్రాఫైట్ బేస్

ఎ. గ్రాఫైట్ బేస్ ఉన్నతమైన ఉష్ణ వాహకతను కలిగి ఉంటుంది, ఇది ఎపిటాక్సియల్ ప్రక్రియల సమయంలో త్వరిత మరియు సమానంగా ఉష్ణ పంపిణీని అనుమతిస్తుంది.

B. సాపేక్షంగా తక్కువ ఉష్ణ విస్తరణ గుణకం కలిగి, గ్రాఫైట్ బేస్ మాSiC-కోటెడ్ గ్రాఫైట్ పొర వాహకాలుసులభంగా వైకల్యం లేకుండా తరచుగా ఉష్ణ చక్రాలను తట్టుకుంటుంది.

C. గ్రాఫైట్ పదార్థాలు అద్భుతమైన యాంత్రిక బలాన్ని కలిగి ఉన్నాయి, కాబట్టి మా SiC-కోటెడ్ గ్రాఫైట్ వేఫర్ క్యారియర్లు దీర్ఘకాలిక ఎపిటాక్సీ అప్లికేషన్‌ల సమయంలో వేఫర్ సబ్‌స్ట్రేట్‌లకు సురక్షితంగా మద్దతు ఇవ్వగలవు.

2. డిపెండబుల్ CVD SiC కోటింగ్

A. అల్ట్రా-అధిక శుభ్రత

CVD SiC పూత యొక్క స్వచ్ఛత ppb స్థాయికి చేరుకుంటుంది, ఇది పొర క్యారియర్ మరియు పొర ఉపరితలం మధ్య కలుషితాన్ని తగ్గిస్తుంది, తద్వారా సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమ యొక్క కఠినమైన శుభ్రత అవసరాలను పూర్తిగా సంతృప్తిపరుస్తుంది.

బి. నమ్మదగిన రక్షణ

CVD SiC పూత దట్టమైన నిర్మాణాన్ని కలిగి ఉంటుంది మరియు అధిక-ఉష్ణోగ్రత మరియు అధిక-తినివేయు వాతావరణాల నుండి గ్రాఫైట్ బేస్‌ను పూర్తిగా వేరు చేయగలదు మరియు గ్రాఫైట్ బేస్ యొక్క రసాయన తుప్పు మరియు ఆక్సీకరణను సమర్థవంతంగా నిరోధించగలదు, తద్వారా దీర్ఘ-కాల సేవలో మా SiC-పూతతో కూడిన గ్రాఫైట్ పొర క్యారియర్ యొక్క నమ్మకమైన ఆపరేషన్‌ను నిర్ధారిస్తుంది.

C. బలమైన బంధం బలం

CVD SiC పూత అసాధారణమైన ఉష్ణ వాహకతను మరియు గ్రాఫైట్ బేస్‌కు సమానమైన ఉష్ణ విస్తరణను అందిస్తుంది. ఇది గ్రాఫైట్ బేస్‌తో బలమైన బంధం బలాన్ని ప్రదర్శిస్తుంది మరియు నాటకీయ ఉష్ణోగ్రత మార్పులలో కూడా పగుళ్లు లేదా పొట్టుకు తక్కువ అవకాశం ఉంటుంది.