MOCVD కీలకమైన పరికరాలు

సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమ యొక్క ఉత్పత్తి ప్రక్రియలో MOCVD పరికరాలు కీలకమైన పరికరాలు, కానీ సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమ గొలుసు (మూడు ప్రధాన ప్రక్రియలు & పరికరాలు: లితోగ్రఫీ, ఎచింగ్, థిన్ ఫిల్మ్ డిపాజిషన్), LED ప్రొడక్షన్ లైన్ ఇన్వెస్ట్‌మెంట్, MOCVDలో ఎక్కువ భాగం పరికరాల పెట్టుబడి. పెట్టుబడి మొత్తం 50% వరకు ఉంటుంది. CVD పరికరాలలో, ఉపరితలం నేరుగా మెటల్‌పై ఉంచబడదు లేదా ఎపిటాక్సియల్ నిక్షేపణ కోసం బేస్ పైన ఉంచబడదు, ఎందుకంటే ఇది గ్యాస్ ప్రవాహ దిశ (క్షితిజ సమాంతర, నిలువు), ఉష్ణోగ్రత, పీడనం, స్థిరీకరణ వంటి వివిధ కారకాల ప్రభావాన్ని కలిగి ఉంటుంది. , కలుషితాలను తొలగిస్తోంది. అందువల్ల, ఒక బేస్ ఉపయోగించబడుతుంది మరియు సబ్‌స్ట్రేట్ డిస్క్‌లో ఉంచబడుతుంది మరియు CVD టెక్నాలజీని ఉపయోగించి సబ్‌స్ట్రేట్ పైన ఎపిటాక్సియల్ డిపాజిషన్ చేయబడుతుంది. ఈ బేస్ SiC-కోటెడ్ గ్రాఫైట్ససెప్టర్(దీనిని a. అని కూడా పిలుస్తారుక్యారియర్), మరియు దాని నిర్మాణం క్రింది చిత్రంలో చూపబడింది.