క్వార్ట్జ్‌ను ఎందుకు ఎనియెల్ చేయాలి

ప్రాసెసింగ్ పద్ధతి, ఉపయోగం మరియు ప్రదర్శన ప్రకారం, క్వార్ట్జ్ గ్లాస్ రెండు వర్గాలుగా వర్గీకరించబడింది: పారదర్శక మరియు అపారదర్శక. పారదర్శక వర్గంలో ఫ్యూజ్డ్ పారదర్శక క్వార్ట్జ్ గ్లాస్, ఫ్యూజ్డ్ క్వార్ట్జ్ గ్లాస్, గ్యాస్-రిఫైన్డ్ పారదర్శక క్వార్ట్జ్ గ్లాస్ మరియు సింథటిక్ క్వార్ట్జ్ గ్లాస్ వంటి రకాలు ఉన్నాయి. అపారదర్శక వర్గంలో అపారదర్శక క్వార్ట్జ్ గ్లాస్, ఆప్టికల్ క్వార్ట్జ్ గ్లాస్, సెమీకండక్టర్ల కోసం క్వార్ట్జ్ గ్లాస్ మరియు ఎలక్ట్రిక్ లైట్ వనరుల కోసం క్వార్ట్జ్ గ్లాస్ ఉన్నాయి. అదనంగా, క్వార్ట్జ్ గ్లాస్ స్వచ్ఛత ఆధారంగా మూడు వర్గాలుగా విభజించబడింది: అధిక స్వచ్ఛత, సాధారణ మరియు డోప్డ్.

డెవిట్రిఫికేషన్ అనేది అధిక-ఉష్ణోగ్రత నిరోధక క్వార్ట్జ్ గ్లాస్‌లో స్వాభావిక లోపం. క్వార్ట్జ్ గ్లాస్ యొక్క అంతర్గత శక్తి స్ఫటికాకార క్వార్ట్జ్ కంటే ఎక్కువగా ఉంటుంది, దీనిని థర్మోడైనమిక్‌గా అస్థిర మెటాస్టేబుల్ స్థితిలో ఉంచుతుంది. ఉష్ణోగ్రత పెరిగేకొద్దీ, SIO2 అణువుల కంపనం వేగవంతం అవుతుంది, మరియు కాలక్రమేణా, ఇది పునర్వ్యవస్థీకరణ మరియు స్ఫటికీకరణకు దారితీస్తుంది. స్ఫటికీకరణ యొక్క పెరుగుదల ప్రధానంగా ఉపరితలంపై సంభవిస్తుంది, తరువాత అంతర్గత లోపాలు ఉంటాయి. ఎందుకంటే ఈ ప్రాంతాలు కలుషితానికి ఎక్కువ అవకాశం ఉంది, ఫలితంగా అశుద్ధ అయాన్లు స్థానికంగా చేరడం జరుగుతుంది. K, NA, LI, CA మరియు MG వంటి ఆల్కలీ అయాన్లు గాజు యొక్క స్నిగ్ధతను తగ్గిస్తాయి, తద్వారా డెవిట్రిఫికేషన్ వేగవంతం అవుతుంది.

గాజు వేడి యొక్క పేలవమైన కండక్టర్ అని గమనించడం ముఖ్యం. క్వార్ట్జ్ గ్లాస్ ముక్క (ఒత్తిడిలో లేనప్పుడు) వేడిచేసినప్పుడు లేదా చల్లబడినప్పుడు, గాజు యొక్క బయటి పొర మొదట ఉష్ణోగ్రత మార్పును అనుభవిస్తుంది. గాజు లోపలికి వేడి నిర్వహించడానికి ముందు వెలుపల వేడి చేస్తుంది లేదా చల్లబరుస్తుంది, ఉపరితలం మరియు లోపలి మధ్య ఉష్ణోగ్రత వ్యత్యాసాన్ని సృష్టిస్తుంది. వేడిచేసినప్పుడు, అధిక ఉష్ణోగ్రతల కారణంగా క్వార్ట్జ్ గ్లాస్ యొక్క బయటి పొర విస్తరిస్తుంది, అయితే చల్లటి లోపలి భాగం ఈ విస్తరణను నిరోధిస్తుంది, దాని అసలు స్థితిని నిర్వహిస్తుంది. ఈ పరస్పర చర్య రెండు రకాల అంతర్గత ఒత్తిడిని ఉత్పత్తి చేస్తుంది: "సంపీడన ఒత్తిడి", ఇది విస్తరణను నిరోధించడానికి బయటి పొరపై పనిచేస్తుంది మరియు "తన్యత ఒత్తిడి", ఇది లోపలి పొరపై విస్తరిస్తున్న బయటి పొర ద్వారా చూపించే శక్తి. సమిష్టిగా, ఈ శక్తులను క్వార్ట్జ్ గ్లాస్‌లో ఒత్తిడిగా సూచిస్తారు.

క్వార్ట్జ్ గ్లాస్ యొక్క సంపీడన బలం దాని తన్యత బలం కంటే చాలా ఎక్కువ కాబట్టి, లోపలి మరియు బయటి పొరలు రెండూ వేడిచేసినప్పుడు పెద్ద ఉష్ణోగ్రత తేడాలను తట్టుకోగలవు. దీపం ప్రాసెసింగ్ సమయంలో, క్వార్ట్జ్ గ్లాస్‌ను నేరుగా హైడ్రోజన్-ఆక్సిజన్ మంటలో విచ్ఛిన్నం చేయకుండా వేడి చేయవచ్చు. అయినప్పటికీ, క్వార్ట్జ్ గ్లాస్ 500 ° C లేదా అంతకంటే ఎక్కువ ఉష్ణోగ్రతలకు వేడిచేసినట్లయితే అకస్మాత్తుగా శీతలీకరణ నీటిలో ఉంచినట్లయితే, అది ముక్కలైపోయే అవకాశం ఉంది.

ఉష్ణ ఒత్తిడిక్వార్ట్జ్ గ్లాస్ ఉత్పత్తులుతాత్కాలిక ఒత్తిడి మరియు శాశ్వత ఒత్తిడిగా విభజించవచ్చు.

తాత్కాలిక ఒత్తిడి:

గాజు యొక్క ఉష్ణోగ్రత మార్పు స్ట్రెయిన్ పాయింట్ ఉష్ణోగ్రత కంటే తక్కువగా ఉన్నప్పుడు, ఉష్ణ వాహకత పేలవంగా ఉంటుంది మరియు మొత్తం వేడి అసమానంగా ఉంటుంది, తద్వారా కొన్ని ఉష్ణ ఒత్తిడిని ఉత్పత్తి చేస్తుంది. ఈ ఉష్ణ ఒత్తిడి ఉష్ణోగ్రత వ్యత్యాసాన్ని కలిగి ఉంటుంది. ఈ ఉష్ణ ఒత్తిడిని తాత్కాలిక ఒత్తిడి అంటారు. సాధారణ సమయాల్లో ఉత్పత్తి చేయబడిన మరియు ప్రాసెస్ చేయబడిన క్వార్ట్జ్ కోర్ రాడ్ల యొక్క కోర్ పొర వేర్వేరు రసాయన పదార్ధాలతో కలుపుతారు కాబట్టి, అసమాన తాపనను ఉత్పత్తి చేయడం చాలా సులభం. అందువల్ల, స్ప్లికింగ్ పూర్తయిన తర్వాత, రాడ్ బాడీ యొక్క ఉష్ణోగ్రత మొత్తం ఉష్ణోగ్రత ప్రవణతను సాధ్యమైనంత సున్నితంగా చేయడానికి మంటతో ఏకరీతిలో ఉంటుంది, తద్వారా క్వార్ట్జ్ కోర్ రాడ్ యొక్క తాత్కాలిక ఒత్తిడిని బాగా తొలగిస్తుంది.

శాశ్వత ఒత్తిడి:

గ్లాస్ స్ట్రెయిన్ పాయింట్ ఉష్ణోగ్రత నుండి చల్లబడినప్పుడు, గది ఉష్ణోగ్రతకు గాజు చల్లబడిన తర్వాత ఉష్ణోగ్రత వ్యత్యాసం ద్వారా ఉత్పన్నమయ్యే ఉష్ణ ఒత్తిడి పూర్తిగా కనిపించదు మరియు లోపలి మరియు బయటి పొరల ఉష్ణోగ్రత సమానంగా ఉంటుంది. గాజులో ఇంకా కొంత ఒత్తిడి ఉంది. శాశ్వత ఒత్తిడి యొక్క పరిమాణం స్ట్రెయిన్ పాయింట్ ఉష్ణోగ్రత పైన ఉత్పత్తి యొక్క శీతలీకరణ రేటు, క్వార్ట్జ్ గ్లాస్ యొక్క స్నిగ్ధత, ఉష్ణ విస్తరణ గుణకం మరియు ఉత్పత్తి యొక్క మందం మీద ఆధారపడి ఉంటుంది. ప్రాసెసింగ్ తరువాత, ఉత్పత్తి చేయబడిన శాశ్వత ఒత్తిడి తదుపరి ప్రాసెసింగ్ మరియు ఉత్పత్తిని ప్రభావితం చేసింది. అందువల్ల, శాశ్వత ఒత్తిడిని ఎనియలింగ్ ద్వారా మాత్రమే తొలగించవచ్చు.

క్వార్ట్జ్ గ్లాస్ యొక్క ఎనియలింగ్ నాలుగు దశలుగా విభజించబడింది: తాపన దశ, స్థిరమైన ఉష్ణోగ్రత దశ, శీతలీకరణ దశ మరియు సహజ శీతలీకరణ దశ.

తాపన దశ: క్వార్ట్జ్ గ్లాస్ యొక్క అవసరాల కోసం, ఈ పని ఆప్టికల్ ఉత్పత్తుల యొక్క ఎనియలింగ్ అవసరాలపై ఆధారపడి ఉంటుంది. మొత్తం తాపన ప్రక్రియ నెమ్మదిగా 1100 ° C కు వేడి చేయబడుతుంది. అనుభవం ప్రకారం, ఉష్ణోగ్రత పెరుగుదల 4.5/r2 ° C/min, ఇక్కడ R అనేది క్వార్ట్జ్ గ్లాస్ ఉత్పత్తి యొక్క వ్యాసార్థం.

స్థిరమైన ఉష్ణోగ్రత దశ: క్వార్ట్జ్ రాడ్ వాస్తవ గరిష్ట ఎనియలింగ్ ఉష్ణోగ్రతకు చేరుకున్నప్పుడు, కొలిమి శరీరం ఉత్పత్తి యొక్క ఉష్ణ ప్రవణతను మందగించడానికి మరియు అన్ని స్థానాల్లో సమానంగా వేడి చేయడానికి స్థిరమైన ఉష్ణోగ్రత చికిత్సకు లోబడి ఉంటుంది. తదుపరి శీతలీకరణ కోసం సిద్ధం చేయండి.

శీతలీకరణ దశ: క్వార్ట్జ్ రాడ్ యొక్క శీతలీకరణ ప్రక్రియలో చాలా తక్కువ శాశ్వత ఒత్తిడిని తొలగించడానికి లేదా ఉత్పత్తి చేయడానికి, అధిక ఉష్ణోగ్రత ప్రవణతలను నివారించడానికి ఈ దశలో ఉష్ణోగ్రత నెమ్మదిగా తగ్గించాలి. 1100 ° C నుండి 950 ° C వరకు శీతలీకరణ రేటు 15 ° C/గంట. శీతలీకరణ రేటు 950 ° C నుండి 750 ° C వరకు 30 ° C/గంట. శీతలీకరణ ఉష్ణోగ్రత 750 ° C నుండి 450 ° C వరకు 60 ° C/గంట.

సహజ శీతలీకరణ దశ: 450 ° C కంటే తక్కువ, ఇన్సులేషన్ వాతావరణాన్ని మార్చకుండా ఎనియలింగ్ కొలిమి విద్యుత్ సరఫరాను కత్తిరించండి, ఇది సహజంగా 100 ° C కంటే తక్కువకు చల్లబరుస్తుంది. 100 ° C కంటే తక్కువ, గది ఉష్ణోగ్రతకు చల్లబరచడానికి ఇన్సులేషన్ వాతావరణాన్ని తెరవండి.

సెమికోరెక్స్ అధిక-నాణ్యతను అందిస్తుందిక్వార్ట్జ్ ఉత్పత్తులు. మీకు ఏవైనా విచారణలు ఉంటే లేదా అదనపు వివరాలు అవసరమైతే, దయచేసి మాతో సన్నిహితంగా ఉండటానికి వెనుకాడరు.

ఫోన్ # +86-13567891907 ను సంప్రదించండి

ఇమెయిల్: sales@semichorex.com