రాపిడ్ థర్మల్ ఎనియలింగ్ యొక్క సంక్షిప్త పరిచయం

రాపిడ్ థర్మల్ ఎనియలింగ్ (RTA లేదా RTP అని సంక్షిప్తీకరించబడింది) అనేది సెమీకండక్టర్ తయారీలో వేగవంతమైన థర్మల్ ప్రాసెసింగ్ సాంకేతికత. దీని ప్రధాన సూత్రం ఏమిటంటే, అధిక-తీవ్రత కలిగిన రేడియంట్ హీట్ సోర్స్ (హాలోజన్ ల్యాంప్స్, లేజర్‌లు, ఫ్లాష్ ల్యాంప్స్ మొదలైనవి) ఉపయోగించి పొర ఉపరితలాన్ని వేగంగా వేడి చేయడం, వేఫర్‌ను అత్యంత తక్కువ సమయంలో (సెకన్లు లేదా మిల్లీసెకన్లు) లక్ష్య అధిక ఉష్ణోగ్రతకు వేడి చేయడం, తర్వాత వేగవంతమైన శీతలీకరణ ప్రక్రియ.

ఎనియలింగ్ ప్రక్రియల యొక్క ప్రధాన రకాలు

అధునాతన ఉత్పాదక నోడ్‌లలో ఎప్పటికీ-తక్కువ ఎనియలింగ్ వ్యవధుల డిమాండ్ కారణంగా, ఎనియలింగ్ టెక్నాలజీల యొక్క పూర్తి పోర్ట్‌ఫోలియో అభివృద్ధి చేయబడింది, ప్రాసెసింగ్ సమయం సెకనుల నుండి మిల్లీసెకన్ల వరకు మరియు మైక్రోసెకన్ల వరకు క్రమానుగతంగా తగ్గించబడుతుంది.

1. వేగవంతమైన థర్మల్ ఎనియలింగ్‌ను నానబెట్టండి

1 ~ 30 సెకన్లతో సాంప్రదాయ RTA ప్రక్రియ గరిష్ట ఉష్ణోగ్రత వద్ద ఉంటుంది.

2. స్పైక్ రాపిడ్ థర్మల్ ఎనియలింగ్

పొరలు తక్షణ శీతలీకరణకు ముందు అతితక్కువ ఉప-సెకండ్ నివాసంతో గరిష్ట ఉష్ణోగ్రత (~1050°C)కి చేరుకుంటాయి; అల్ట్రా-నిస్సార జంక్షన్ ఏర్పడటానికి ప్రధాన స్రవంతి ప్రక్రియ.

3. ఫ్లాష్ లాంప్ ఎనియలింగ్

ఆర్క్ ల్యాంప్‌ల నుండి తీవ్రమైన మిల్లీసెకండ్-స్కేల్ ఫ్లాష్ తక్షణమే వేఫర్ ఉపరితలాన్ని మాత్రమే వేడి చేస్తుంది, అయితే బల్క్ సబ్‌స్ట్రేట్‌ను చల్లగా ఉంచుతుంది.

4.లేజర్ స్పైక్ ఎనియలింగ్

స్కానింగ్ లేజర్ పుంజం మైక్రోసెకండ్ నుండి మిల్లీసెకన్ల వరకు ఉన్న సిలికాన్ లేయర్‌కు పరిమితం చేయబడిన స్థానికీకరించిన తాపనాన్ని అందిస్తుంది. ఇది అత్యల్ప థర్మల్ బడ్జెట్, అత్యధిక డోపాంట్ యాక్టివేషన్ సామర్థ్యం మరియు సాధ్యమైనంత తక్కువ జంక్షన్‌లను అందిస్తుంది.

---

అయాన్ ఇంప్లాంటేషన్ తర్వాత వేగవంతమైన థర్మల్ ఎనియలింగ్ ఎందుకు అవసరం?

అయాన్ ఇంప్లాంటేషన్ అనేది డోపింగ్‌ను పూర్తి చేయడానికి సిలికాన్ పొరలను కొట్టడానికి అధిక-శక్తి అయాన్‌లపై ఆధారపడే ఉగ్రమైన బాంబు దాడి ప్రక్రియ, ఇది పొరకు తీవ్రమైన నష్టాన్ని కలిగిస్తుంది మరియు ఫలితంగా రెండు క్లిష్టమైన లోపాలను ఎనియలింగ్ ప్రక్రియ ద్వారా మాత్రమే పరిష్కరించవచ్చు.

1. డోపాంట్లు సరికాని లాటిస్ సైట్‌లను ఆక్రమిస్తాయి

ఉచిత ఛార్జ్ క్యారియర్‌లను (రంధ్రాలు లేదా ఎలక్ట్రాన్లు) ఉత్పత్తి చేయడానికి డోపాంట్ అణువుల కోసం (బోరాన్, ఫాస్ఫరస్, ఆర్సెనిక్), అవి స్థానిక సిలికాన్ అణువుల స్థానంలో ప్రత్యామ్నాయ లాటిస్ సైట్‌లను ఆక్రమించాలి. అయితే, ఇంప్లాంటేషన్ చేసిన వెంటనే, చాలా డోపాంట్లు మధ్యంతర స్థానాల్లో చిక్కుకుపోతాయి. ఈ మధ్యంతర డోపాంట్లు విద్యుత్ నిష్క్రియంగా ఉంటాయి మరియు ప్రసరణకు ఎలాంటి క్యారియర్‌లను అందించలేవు. ఇంటర్‌స్టీషియల్ డోపాంట్‌లను ప్రత్యామ్నాయ సైట్‌లకు తరలించడానికి అన్నేలింగ్ థర్మల్ ఎనర్జీని అందిస్తుంది, తద్వారా నిజమైన “డోపాంట్ యాక్టివేషన్” సాధించి, వాటిని ఫంక్షనల్ డోనర్‌లుగా లేదా యాక్సెప్ట్‌లుగా మారుస్తుంది. డోపాంట్ యాక్టివేషన్ రేట్ నేరుగా డోప్డ్ లేయర్ యొక్క షీట్ రెసిస్టెన్స్‌ని నియంత్రిస్తుంది.

2. లాటిస్ నిర్మాణం తీవ్రంగా దెబ్బతింది

అధిక-మోతాదు అయాన్ ఇంప్లాంటేషన్ పొర ఉపరితలంపై ఆర్డర్ చేయబడిన క్రిస్టల్ లాటిస్‌కు అంతరాయం కలిగిస్తుంది మరియు అమోర్ఫిజేషన్‌కు కూడా దారితీయవచ్చు: వాస్తవానికి బాగా సమలేఖనం చేయబడిన సింగిల్-క్రిస్టల్ సిలికాన్ అస్తవ్యస్తమైన గాజు-వంటి నిరాకార సిలికాన్ పొరగా మారుతుంది. ఎనియలింగ్ ఈ నిరాకార సిలికాన్ పొరను ఒక టెంప్లేట్‌గా చెక్కుచెదరకుండా ఉన్న సిలికాన్‌ని ఉపయోగించి ఒకే క్రిస్టల్‌గా తిరిగి పెంచడానికి అనుమతిస్తుంది. ఈ ప్రక్రియను సాలిడ్-ఫేజ్ ఎపిటాక్సియల్ రీక్రిస్టలైజేషన్ (SPER) అంటారు.

ఎనియలింగ్ ప్రక్రియ ఎందుకు "వేగంగా" ఉండాలి?

అధిక-ఉష్ణోగ్రత చికిత్స తప్పనిసరి అయితే, వేగవంతమైన థర్మల్ ఎనియలింగ్ ప్రాసెసింగ్‌కు బదులుగా దీర్ఘకాలం వేడి చేయడానికి సాంప్రదాయ ఫర్నేసులను ఎందుకు ఉపయోగించకూడదు? కారణం ఏమిటంటే, అధిక ఉష్ణోగ్రతలు మలినాలను సక్రియం చేయడమే కాకుండా అవి లోపలికి వ్యాపించేలా చేస్తాయి, జంక్షన్ లోతుగా చేస్తుంది. అధునాతన సెమీకండక్టర్ పరికరాలకు అల్ట్రా-నిస్సార జంక్షన్‌లు (USJ) అవసరం, జంక్షన్ ఎంత లోతుగా ఉంటే అంత మంచిది.

డోపాంట్ డిఫ్యూజన్ దూరం థర్మల్ బడ్జెట్ ద్వారా నిర్ణయించబడుతుంది, సూత్రం ద్వారా నిర్వచించబడుతుంది:

విస్తరణ పొడవు ≈ √(D · t), D ∝ exp(−Eₐ/kT)

D = డోపాంట్ డిఫ్యూజన్ కోఎఫీషియంట్ (ఉష్ణోగ్రతతో విపరీతంగా పెరుగుతుంది)

t = అధిక ఉష్ణోగ్రత వద్ద నివసించే సమయం

అధిక ఉష్ణోగ్రతలు మరియు ఎక్కువ థర్మల్ నివసించే సమయాలు రెండూ లోతైన జంక్షన్‌లకు దారితీస్తాయి, ఇది ఒక ప్రాథమిక ట్రేడ్‌ఆఫ్‌ను సృష్టిస్తుంది: పూర్తి డోపాంట్ యాక్టివేషన్ కోసం తగినంత అధిక ఉష్ణోగ్రత అవసరం, అయినప్పటికీ జంక్షన్ లోతును అణిచివేసేందుకు కనీస తాపన వ్యవధి అవసరం.

ఏకైక ఆచరణీయ పరిష్కారం వేగంగా గరిష్ట ఉష్ణోగ్రతకు చేరుకోవడం, తక్షణ శీతలీకరణ, అల్ట్రా-షార్ట్ విండోకు అధిక-ఉష్ణోగ్రత బహిర్గతం పరిమితం చేయడం. సాంప్రదాయ ఫర్నేస్ హీటింగ్ ట్రీట్‌మెంట్ కంటే ఇది వేగవంతమైన థర్మల్ ఎనియలింగ్ యొక్క ప్రధాన ప్రయోజనం: రెండవ లేదా మిల్లీసెకండ్-స్థాయి ఉష్ణోగ్రత సైక్లింగ్ మొత్తం థర్మల్ బడ్జెట్‌ను తగ్గిస్తుంది.

సెమికోరెక్స్ అధిక నాణ్యతను అందిస్తుందిRTP/RTA వేఫర్ క్యారియర్లువినియోగదారుల అవసరాల ఆధారంగా. మీకు ఏవైనా విచారణలు ఉంటే లేదా అదనపు వివరాలు కావాలంటే, దయచేసి మమ్మల్ని సంప్రదించడానికి సంకోచించకండి.

ఫోన్ # +86-13567891907 సంప్రదించండి

ఇమెయిల్: sales@semicorex.com