SiC హీటింగ్ ఫిలమెంట్

సెమికోరెక్స్ సిఐసి హీటింగ్ ఫిలమెంట్, కొత్త సెమీకండక్టర్ ఫ్యాబ్రికేషన్‌లో వేఫర్ ప్రాసెసింగ్ కోసం అభివృద్ధి చేయబడిన అధిక వాక్యూమ్ హీటింగ్ ఎలిమెంట్, ఇది ఒక వినూత్న హీటింగ్ ఎలిమెంట్.గ్రాఫైట్ కోర్మరియు అధిక స్వచ్ఛతసిలికాన్ కార్బైడ్ పూత. ప్రత్యేక ఫిలమెంట్ గ్రాఫైట్ యొక్క ఉష్ణ వాహకత మరియు SiC యొక్క మన్నిక మరియు రక్షణను ఉపయోగిస్తుంది, దీని ఫలితంగా కాలక్రమేణా స్థిరమైన మరియు శక్తి-సమర్థవంతమైన హీటర్ లభిస్తుంది. SiC హీటింగ్ ఫిలమెంట్ పొరలను ఏకరీతిగా వేడి చేయడానికి మరియు స్పెసిఫికేషన్‌ను చేరుకోవడానికి రూపొందించబడింది, ఇది ఎపిటాక్సీ, డిఫ్యూజన్ మరియు ఎనియలింగ్ వంటి అధిక-ఉష్ణోగ్రత సెమీకండక్టర్ ప్రాసెసింగ్‌కు అద్భుతమైన భాగం.

గ్రాఫైట్ యొక్క ఉష్ణ లక్షణాలు మరియు నాణ్యమైన విద్యుత్ లక్షణాల కారణంగా SiC హీటింగ్ ఫిలమెంట్ అధిక స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్‌తో తయారు చేయబడింది. గ్రాఫైట్ విద్యుత్ భారం కింద వేగవంతమైన ప్రతిస్పందన మరియు సమర్థవంతమైన వేడిని ఎనేబుల్ చేసే ప్రధాన తాపన పనితీరును అందిస్తుంది. దట్టమైన అధిక-స్వచ్ఛత SiC పూత కలుషిత మూలాల నుండి ఫిలమెంట్‌ను రక్షిస్తుంది. SiC పూత రసాయన కాలుష్యం నుండి పొరను రక్షిస్తుంది మరియు ఆక్సీకరణం, అలాగే గదిలోని కణాలు, ఫిలమెంట్ యొక్క ఉపయోగకరమైన జీవితాన్ని పొడిగిస్తుంది మరియు శుభ్రమైన గది వాతావరణాన్ని సృష్టిస్తుంది.

SiC హీటింగ్ ఫిలమెంట్ యొక్క ముఖ్య నాణ్యత పొర యొక్క ఏకరీతి వేడిని అందించే సామర్ధ్యం. పొర అంతటా ఉష్ణోగ్రత వైవిధ్యాలు లోపాలు లేదా దిగుబడిని కోల్పోతాయి. SiC హీటింగ్ ఫిలమెంట్ అద్భుతమైన థర్మల్ కండక్టివిటీని కలిగి ఉంది మరియు ఫిలమెంట్ యొక్క ఘన రూపకల్పన వేడి స్థిరంగా మరియు మరింత ఏకరీతిగా ఉంటుందని నిర్ధారిస్తుంది, సంపూర్ణ ప్రక్రియ నియంత్రణ కోసం ఉష్ణ ప్రవణతలను పరిమితం చేస్తుంది.

SiC హీటింగ్ ఫిలమెంట్ అనుకూలీకరించదగినది, ప్రతి ఫిలమెంట్ యొక్క ఎలక్ట్రికల్ రెసిస్టెన్స్ విలువను దాని ప్రక్రియ సాధనం మరియు ఆపరేటింగ్ వాతావరణం కోసం అనుకూలీకరించవచ్చు. ఈ అనుకూలీకరణ సిలికాన్ కార్బైడ్ యొక్క సాంకేతికతను ఫిలమెంట్ జ్యామితి, పూత మందం మరియు పదార్థ లక్షణాల యొక్క నిరోధక విలువను నియంత్రించడానికి అనుమతిస్తుంది. ఒక SiC హీటింగ్ ఫిలమెంట్ అనేక విభిన్న పొర పరిమాణాలు మరియు ప్రక్రియ వంటకాలతో అనేక విభిన్న ఫర్నేస్ డిజైన్‌లకు సరిపోతుంది. ఇది సెమీకండక్టర్ తయారీదారులకు ప్రత్యేకంగా అనుకూలమైనది, ఎందుకంటే ఇది ప్రస్తుత ప్రక్రియలను మరింత సమర్థవంతంగా అమలు చేయడానికి అనుమతిస్తుంది మరియు ఇప్పటికే ఉన్న సిస్టమ్‌లతో అనుకూలతను నిర్వహిస్తుంది.  పనితీరు యొక్క మూడవ లక్షణం మన్నిక. అధిక ఉష్ణోగ్రత సెమీకండక్టర్ ప్రక్రియలలో, హీటింగ్ ఎలిమెంట్ చాలా దూకుడు రసాయన వాతావరణాలకు మరియు పునరావృత థర్మల్ సైక్లింగ్‌కు గురవుతుంది.

సెమికోరెక్స్ సిఐసి హీటింగ్ ఫిలమెంట్ యొక్క అప్లికేషన్‌లు సెమీకండక్టర్ డివైస్ ఫ్యాబ్రికేషన్ ప్రక్రియల యొక్క విస్తృతమైన శ్రేణిని కవర్ చేస్తాయి. ఎపిటాక్సియల్ పెరుగుదల సమయంలో, ఉదాహరణకు, హీటింగ్ ఎలిమెంట్ అధిక నాణ్యత గల స్ఫటికాకార చిత్రాలను డిపాజిట్ చేయడానికి స్థిరమైన మరియు ఏకరీతి ఉపరితల ఉష్ణోగ్రతను అందిస్తుంది.