కార్బన్ ఇన్సులేషన్ అనుభూతి చెందింది

సెమికోరెక్స్ కార్బన్ ఇన్సులేషన్ ఫెల్ట్ అనేది సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమ యొక్క క్రిస్టల్ వృద్ధి ప్రక్రియలో ఉపయోగం కోసం ప్రత్యేకంగా ఇంజనీరింగ్ చేయబడిన అధిక-పనితీరు గల థర్మల్ ఇన్సులేషన్ పదార్థం. అధిక-స్వచ్ఛత కార్బన్ లేదా గ్రాఫైట్ ఫైబర్స్ నుండి తయారు చేయబడిన ఈ కార్బన్ ఇన్సులేషన్ సిలికాన్ (SI), సిలికాన్ కార్బైడ్ (SIC) మరియు ఇతర సమ్మేళనం సెమీకండక్టర్లు వంటి ఒకే స్ఫటికాల పెరుగుదలలో ఉపయోగించే అధిక-ఉష్ణోగ్రత కొలిమి పరిసరాల యొక్క కఠినమైన ఉష్ణ నిర్వహణ మరియు స్వచ్ఛత అవసరాలను తీర్చడానికి ఆప్టిమైజ్ చేయబడింది.

సింగిల్ క్రిస్టల్ సిలికాన్ యొక్క పెరుగుదల ప్రక్రియ పూర్తిగా థర్మల్ ఫీల్డ్‌లో జరుగుతుంది. మంచి ఉష్ణ క్షేత్రం క్రిస్టల్ నాణ్యతను మెరుగుపరచడానికి అనుకూలంగా ఉంటుంది మరియు అధిక స్ఫటికీకరణ సామర్థ్యాన్ని కలిగి ఉంటుంది. థర్మల్ ఫీల్డ్ యొక్క రూపకల్పన ఎక్కువగా డైనమిక్ థర్మల్ ఫీల్డ్‌లోని ఉష్ణోగ్రత ప్రవణతలలో మార్పులను మరియు కొలిమి గదిలో వాయువు ప్రవాహాన్ని నిర్ణయిస్తుంది. థర్మల్ ఫీల్డ్‌లో ఉపయోగించే పదార్థాలలో వ్యత్యాసం థర్మల్ ఫీల్డ్ యొక్క సేవా జీవితాన్ని నేరుగా నిర్ణయిస్తుంది.

CZ సింగిల్ క్రిస్టల్ సిలికాన్ కొలిమిలో,కార్ అడ్జ్రాలకు సంబంధించిన పదార్థాలుకొన్నిసార్లు ఉపయోగిస్తారు. ప్రస్తుతం, వారు బోల్ట్‌లు, కాయలు, క్రూసిబుల్స్, లోడ్ ప్లేట్లు మరియు ఇతర భాగాలను తయారు చేయడానికి ఉపయోగించడం ప్రారంభించారు. కార్బన్ ఇన్సులేషన్ భావించిన కార్బన్ ఫైబర్ రీన్ఫోర్స్డ్ కార్బన్-ఆధారిత మిశ్రమ పదార్థాలు అధిక నిర్దిష్ట బలం, అధిక నిర్దిష్ట మాడ్యులస్, తక్కువ ఉష్ణ విస్తరణ గుణకం, మంచి వాహకత, అధిక పగులు మొండితనం, తక్కువ నిర్దిష్ట గురుత్వాకర్షణ, థర్మల్ షాక్ నిరోధకత, తుప్పు నిరోధకత, అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత మరియు ఇతర అద్భుతమైన లక్షణాలు. ప్రస్తుతం, అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధక నిర్మాణ పదార్థాల యొక్క కొత్త రకం వలె, ఇది ఏరోస్పేస్, రేసింగ్, బయోమెటీరియల్స్ మరియు ఇతర రంగాలలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది.

పాలియాక్రిలోనిట్రైల్-ఆధారిత కార్బన్ ఇన్సులేషన్ పెద్ద బూడిద కంటెంట్ ఉందని భావించింది. అధిక-ఉష్ణోగ్రత చికిత్స తరువాత, సింగిల్ ఫైబర్ పెళుసుగా మారుతుంది. ఆపరేషన్ సమయంలో, కొలిమి వాతావరణాన్ని కలుషితం చేయడానికి ధూళిని ఉత్పత్తి చేయడం సులభం. అదే సమయంలో, ఫైబర్ మానవ శరీరం యొక్క రంధ్రాలు మరియు శ్వాసకోశలోకి సులభంగా ప్రవేశిస్తుంది, ఇది మానవ ఆరోగ్యానికి హానికరం. విస్కోస్-ఆధారిత కార్బన్ మంచి థర్మల్ ఇన్సులేషన్ పనితీరును కలిగి ఉంది. ఇది వేడి చికిత్స తర్వాత సాపేక్షంగా మృదువైనది మరియు దుమ్మును ఉత్పత్తి చేయడం అంత సులభం కాదు. అయినప్పటికీ, విస్కోస్-ఆధారిత ముడి ఫైబర్ యొక్క క్రాస్ సెక్షన్ సక్రమంగా ఉంటుంది మరియు ఫైబర్ ఉపరితలంపై చాలా పొడవైన కమ్మీలు ఉన్నాయి. CZ సిలికాన్ కొలిమిలో ఆక్సీకరణ వాతావరణం సమక్షంలో, C02 వంటి వాయువులను ఉత్పత్తి చేయడం సులభం, దీనివల్ల ఒకే క్రిస్టల్ సిలికాన్ పదార్థంలో ఆక్సిజన్ మరియు కార్బన్ మూలకాల అవపాతం ఏర్పడుతుంది. ప్రస్తుతం, సెమీకండక్టర్ సింగిల్ క్రిస్టల్ పరిశ్రమలో ఎక్కువగా ఉపయోగించబడేది తారు-ఆధారిత కార్బన్ ఫీల్, ఇది విస్కోస్-ఆధారిత కార్బన్ అనుభవించిన దానికంటే ఘోరమైన థర్మల్ ఇన్సులేషన్ పనితీరును కలిగి ఉంది, కాని తారు ఆధారిత కార్బన్ అనుభూతి అధిక స్వచ్ఛత మరియు తక్కువ దుమ్ము ఉద్గారాలను కలిగి ఉంది.

సింగిల్ క్రిస్టల్ సిలికాన్ యొక్క పెరుగుదల నాణ్యత థర్మల్ ఫీల్డ్ పర్యావరణం ద్వారా నేరుగా ప్రభావితమవుతుంది మరియు కార్బన్ ఫైబర్ థర్మల్ ఇన్సులేషన్ పదార్థాలు ఈ వాతావరణంలో కీలక పాత్ర పోషిస్తాయి.కార్బన్ ఫైబర్ థర్మల్ ఇన్సులేషన్ మృదువైన అనుభూతిఫోటోవోల్టాయిక్ సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమలో దాని ఖర్చు ప్రయోజనం, అద్భుతమైన థర్మల్ ఇన్సులేషన్ ప్రభావం, సౌకర్యవంతమైన డిజైన్ మరియు అనుకూలీకరించదగిన ఆకారం కారణంగా ఇప్పటికీ గణనీయమైన ప్రయోజనం ఉంది. అదనంగా, కార్బన్ ఫైబర్ దృ g మైన ఇన్సులేషన్ దాని నిర్దిష్ట బలం మరియు అధిక ఆపరేషన్ కారణంగా థర్మల్ ఫీల్డ్ మెటీరియల్ మార్కెట్లో అభివృద్ధికి ఎక్కువ స్థలం ఉంటుందని భావించింది.