హోమ్ > ఉత్పత్తులు > CVD ఫర్నేస్ > CVD రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ ఫర్నేసులు
ఉత్పత్తులు
CVD రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ ఫర్నేసులు

CVD రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ ఫర్నేసులు

సెమికోరెక్స్ CVD రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ ఫర్నేసులు అధిక-నాణ్యత ఎపిటాక్సీ తయారీని మరింత సమర్థవంతంగా చేస్తాయి. మేము అనుకూల కొలిమి పరిష్కారాలను అందిస్తాము. మా CVD రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ ఫర్నేసులు మంచి ధర ప్రయోజనాన్ని కలిగి ఉంటాయి మరియు చాలా యూరోపియన్ మరియు అమెరికన్ మార్కెట్‌లను కవర్ చేస్తాయి. చైనాలో మీ దీర్ఘకాలిక భాగస్వామిగా మారేందుకు మేము ఎదురుచూస్తున్నాము.

విచారణ పంపండి

ఉత్పత్తి వివరణ

CVD మరియు CVI కోసం రూపొందించిన సెమికోరెక్స్ CVD రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ ఫర్నేసులు, పదార్థాలను సబ్‌స్ట్రేట్‌లో జమ చేయడానికి ఉపయోగిస్తారు. ప్రతిచర్య ఉష్ణోగ్రత 2200 ° C వరకు ఉంటుంది. ద్రవ్యరాశి ప్రవాహ నియంత్రణలు మరియు మాడ్యులేటింగ్ వాల్వ్‌లు N, H, Ar, CO2, మీథేన్, సిలికాన్ టెట్రాక్లోరైడ్, మిథైల్ ట్రైక్లోరోసిలేన్ మరియు అమ్మోనియా వంటి రియాక్టెంట్ మరియు క్యారియర్ వాయువులను సమన్వయపరుస్తాయి. సిలికాన్ కార్బైడ్, పైరోలైటిక్ కార్బన్, బోరాన్ నైట్రైడ్, జింక్ సెలెనైడ్ మరియు జింక్ సల్ఫైడ్ వంటి పదార్థాలు డిపాజిట్ చేయబడ్డాయి. CVD రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ ఫర్నేసులు క్షితిజ సమాంతర మరియు నిలువు నిర్మాణాలను కలిగి ఉంటాయి.


అప్లికేషన్:C/C కాంపోజిట్ మెటీరియల్ కోసం SiC కోటింగ్, గ్రాఫైట్ కోసం SiC కోటింగ్, ఫైబర్ కోసం SiC, BN మరియు ZrC కోటింగ్ మరియు మొదలైనవి.


సెమికోరెక్స్ CVD రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ ఫర్నేసుల లక్షణాలు

1.దీర్ఘకాలిక ఉపయోగం కోసం అధిక-నాణ్యత పదార్థాలతో తయారు చేయబడిన బలమైన డిజైన్;

2.మాస్ ఫ్లో కంట్రోలర్లు మరియు అధిక-నాణ్యత కవాటాలను ఉపయోగించడం ద్వారా ఖచ్చితంగా నియంత్రించబడే గ్యాస్ డెలివరీ;

3.సురక్షితమైన మరియు నమ్మదగిన ఆపరేషన్ కోసం ఓవర్-టెంపరేచర్ ప్రొటెక్షన్ మరియు గ్యాస్ లీక్ డిటెక్షన్ వంటి భద్రతా లక్షణాలతో అమర్చబడింది;

4. బహుళ ఉష్ణోగ్రత నియంత్రణ మండలాలను ఉపయోగించడం, గొప్ప ఉష్ణోగ్రత ఏకరూపత;

5.మంచి సీలింగ్ ప్రభావం మరియు గొప్ప కాలుష్య నిరోధక పనితీరుతో ప్రత్యేకంగా రూపొందించబడిన డిపాజిషన్ ఛాంబర్;

6.నిక్షేపణ చనిపోయిన మూలలు మరియు ఖచ్చితమైన నిక్షేపణ ఉపరితలం లేకుండా, ఏకరీతి వాయువు ప్రవాహంతో బహుళ నిక్షేపణ మార్గాలను ఉపయోగించడం;

7. ఇది నిక్షేపణ ప్రక్రియలో తారు, ఘన ధూళి మరియు సేంద్రీయ వాయువులకు చికిత్సను కలిగి ఉంటుంది


CVD ఫర్నేస్ యొక్క లక్షణాలు

మోడల్

వర్కింగ్ జోన్ పరిమాణం

(W × H × L) mm

గరిష్టంగా ఉష్ణోగ్రత (°C)

ఉష్ణోగ్రత

ఏకరూపత (°C)

అల్టిమేట్ వాక్యూమ్ (Pa)

ఒత్తిడి పెరుగుదల రేటు (Pa/h)

LFH-6900-SiC

600×600×900

1500

± 7.5

1-100

0.67

LFH-10015-SiC

1000×1000×1500

1500

± 7.5

1-100

0.67

LFH-1220-SiC

1200×1200×2000

1500

±10

1-100

0.67

LFH-1530-SiC

1500×1500×3000

1500

±10

1-100

0.67

LFH-2535-SiC

2500×2000×3500

1500

±10

1-100

0.67

LFV-D3050-SiC

φ300×500

1500

±5

1-100

0.67

LFV-D6080-SiC

φ600×800

1500

± 7.5

1-100

0.67

LFV-D8120-SiC

φ800×1200

1500

± 7.5

1-100

0.67

LFV-D11-SiC

φ1100×2000

1500

±10

1-100

0.67

LFV-D26-SiC

φ2600×3200

1500

±10

1-100

0.67

*పై పారామీటర్‌లను ప్రాసెస్ అవసరాలకు సర్దుబాటు చేయవచ్చు, అవి అంగీకార ప్రమాణం కాదు, వివరాల స్పెక్. సాంకేతిక ప్రతిపాదన మరియు ఒప్పందాలలో పేర్కొనబడుతుంది.




హాట్ ట్యాగ్‌లు: CVD రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ ఫర్నేసులు, చైనా, తయారీదారులు, సరఫరాదారులు, ఫ్యాక్టరీ, అనుకూలీకరించిన, బల్క్, అధునాతన, మన్నికైనవి
సంబంధిత వర్గం
విచారణ పంపండి
దయచేసి దిగువ ఫారమ్‌లో మీ విచారణను ఇవ్వడానికి సంకోచించకండి. మేము మీకు 24 గంటల్లో ప్రత్యుత్తరం ఇస్తాము.
సంబంధిత ఉత్పత్తులు
X
మీకు మెరుగైన బ్రౌజింగ్ అనుభవాన్ని అందించడానికి, సైట్ ట్రాఫిక్‌ను విశ్లేషించడానికి మరియు కంటెంట్‌ను వ్యక్తిగతీకరించడానికి మేము కుక్కీలను ఉపయోగిస్తాము. ఈ సైట్‌ని ఉపయోగించడం ద్వారా, మీరు మా కుక్కీల వినియోగానికి అంగీకరిస్తున్నారు. గోప్యతా విధానం
తిరస్కరించు అంగీకరించు