ఎలెక్ట్రోస్టాటిక్ చక్ ఇ-చక్

సెమికోరెక్స్ ఎలెక్ట్రోస్టాటిక్ చక్ ఇ-చక్ ఎలెక్ట్రోస్టాటిక్ అట్రాక్షన్ సూత్రాలపై పనిచేస్తుంది, మెకానికల్ క్లాంప్‌లు లేదా వాక్యూమ్ సక్షన్ అవసరం లేకుండా నమ్మకమైన మరియు ఖచ్చితమైన పొర నిలుపుదలని అందిస్తుంది, ముఖ్యంగా ఎచింగ్, అయాన్ ఇంప్ల్-లో ఉపయోగించబడుతుంది.

వ్యతిరేకత, PVD, CVD, మొదలైనవి సెమీకండక్టర్ ప్రాసెసింగ్. దీని అనుకూలీకరించదగిన కొలతలు దీనిని విస్తృత శ్రేణి అప్లికేషన్‌లకు అనుకూలించేలా చేస్తాయి, సెమీకండక్టర్ ఫాబ్రికేషన్ ప్రక్రియలలో సౌలభ్యం మరియు సామర్థ్యాన్ని కోరుకునే కంపెనీలకు ఇది ఆదర్శవంతమైన ఎంపిక.

J-R రకం ఎలెక్ట్రోస్టాటిక్ చక్ E-చక్ వెనుక ఉన్న ప్రాథమిక సాంకేతికత పొర మరియు చక్ యొక్క ఉపరితలం మధ్య ఎలెక్ట్రోస్టాటిక్ శక్తిని ఉత్పత్తి చేయగల సామర్థ్యం. చక్ లోపల పొందుపరిచిన ఎలక్ట్రోడ్‌లకు అధిక వోల్టేజ్‌ని వర్తింపజేయడం ద్వారా ఈ శక్తి సృష్టించబడుతుంది, ఇది పొర మరియు చక్ రెండింటిపై ఛార్జీలను ప్రేరేపిస్తుంది, తద్వారా బలమైన ఎలక్ట్రోస్టాటిక్ బంధాన్ని సృష్టిస్తుంది. ఈ మెకానిజం పొరను సురక్షితంగా ఉంచడమే కాకుండా పొర మరియు చక్ మధ్య భౌతిక సంబంధాన్ని కూడా తగ్గిస్తుంది, సున్నితమైన సెమీకండక్టర్ పదార్థాలను దెబ్బతీసే సంభావ్య కాలుష్యం లేదా యాంత్రిక ఒత్తిడిని తగ్గిస్తుంది.

సెమికోరెక్స్ కస్టమర్ల నుండి అవసరాలను బట్టి 200 మిమీ నుండి 300 మిమీ లేదా అంతకంటే ఎక్కువ కస్టమైజ్ చేసిన ఉత్పత్తులను ఉత్పత్తి చేయగలదు. ఈ అనుకూలీకరించదగిన ఎంపికలను అందించడం ద్వారా, J-R రకం ESC ప్లాస్మా ఎచింగ్, రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (CVD), భౌతిక ఆవిరి నిక్షేపణ (PVD) మరియు అయాన్ ఇంప్లాంటేషన్‌తో సహా సెమీకండక్టర్ ప్రక్రియల శ్రేణికి గరిష్ట సౌలభ్యాన్ని అందిస్తుంది.

పదార్థాల పరంగా, ఎలెక్ట్రోస్టాటిక్ చక్ E-చక్ అల్యూమినా (Al2O3) లేదా అల్యూమినియం నైట్రైడ్ (AlN) వంటి అధిక-నాణ్యత సిరామిక్ పదార్థాల నుండి తయారు చేయబడింది, ఇవి వాటి అద్భుతమైన విద్యుద్వాహక లక్షణాలు, యాంత్రిక బలం మరియు ఉష్ణ స్థిరత్వానికి ప్రసిద్ధి చెందాయి. అధిక ఉష్ణోగ్రతలు, తినివేయు వాతావరణాలు మరియు ప్లాస్మా బహిర్గతం వంటి సెమీకండక్టర్ తయారీ యొక్క కఠినమైన పరిస్థితులను తట్టుకోవడానికి ఈ సిరామిక్స్ చక్‌కు అవసరమైన మన్నికను అందిస్తాయి. అదనంగా, పొరతో ఏకరీతి సంబంధాన్ని నిర్ధారించడానికి, ఎలెక్ట్రోస్టాటిక్ శక్తిని మెరుగుపరచడానికి మరియు మొత్తం ప్రక్రియ పనితీరును మెరుగుపరచడానికి సిరామిక్ ఉపరితలం అధిక స్థాయి సున్నితత్వంతో పాలిష్ చేయబడింది.

ఎలెక్ట్రోస్టాటిక్ చక్ E-చక్ సెమీకండక్టర్ ఫాబ్రికేషన్‌లో సాధారణంగా ఎదురయ్యే ఉష్ణ సవాళ్లను నిర్వహించడానికి కూడా రూపొందించబడింది. ఎచింగ్ లేదా డిపాజిషన్ వంటి ప్రక్రియల సమయంలో ఉష్ణోగ్రత నిర్వహణ కీలకం, ఇక్కడ పొర యొక్క ఉష్ణోగ్రత వేగంగా మారవచ్చు. చక్‌లో ఉపయోగించే సిరామిక్ పదార్థాలు అద్భుతమైన ఉష్ణ వాహకతను అందిస్తాయి, వేడిని సమర్థవంతంగా వెదజల్లడానికి మరియు స్థిరమైన పొర ఉష్ణోగ్రతను నిర్వహించడానికి సహాయపడతాయి.

ఎలెక్ట్రోస్టాటిక్ చక్ E-చక్ కణ కాలుష్యాన్ని తగ్గించడానికి ప్రాధాన్యతనిస్తూ రూపొందించబడింది, ఇది సెమీకండక్టర్ తయారీలో కీలకం, ఇక్కడ మైక్రోస్కోపిక్ కణాలు కూడా తుది ఉత్పత్తిలో లోపాలకు దారితీస్తాయి. చక్ యొక్క మృదువైన సిరామిక్ ఉపరితలం కణ సంశ్లేషణ సంభావ్యతను తగ్గిస్తుంది మరియు పొర మరియు చక్ మధ్య తగ్గిన భౌతిక సంబంధం, ఎలెక్ట్రోస్టాటిక్ హోల్డింగ్ మెకానిజం కారణంగా, కాలుష్య ప్రమాదాన్ని మరింత తగ్గిస్తుంది. J-R రకం ESC యొక్క కొన్ని నమూనాలు అధునాతన ఉపరితల పూతలు లేదా కణాలను తిప్పికొట్టే మరియు తుప్పును నిరోధించే చికిత్సలను కూడా కలిగి ఉంటాయి, క్లీన్‌రూమ్ పరిసరాలలో చక్ యొక్క దీర్ఘాయువు మరియు విశ్వసనీయతను మెరుగుపరుస్తాయి.

సారాంశంలో, J-R రకం ఎలెక్ట్రోస్టాటిక్ చక్ E-చక్ అనేది ఒక బహుముఖ మరియు నమ్మదగిన పొర-హోల్డింగ్ పరిష్కారం, ఇది సెమీకండక్టర్ తయారీ ప్రక్రియల విస్తృత శ్రేణిలో అసాధారణమైన పనితీరును అందిస్తుంది. దాని అనుకూలీకరించదగిన డిజైన్, అధునాతన ఎలెక్ట్రోస్టాటిక్ హోల్డింగ్ టెక్నాలజీ మరియు బలమైన మెటీరియల్ లక్షణాలు శుభ్రత మరియు ఖచ్చితత్వం యొక్క అత్యున్నత ప్రమాణాలను కొనసాగిస్తూ పొర నిర్వహణను ఆప్టిమైజ్ చేయాలనుకునే కంపెనీలకు ఆదర్శవంతమైన ఎంపిక. ప్లాస్మా ఎచింగ్, డిపాజిషన్ లేదా అయాన్ ఇంప్లాంటేషన్‌లో ఉపయోగించినప్పటికీ, J-R రకం ESC నేటి సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమ యొక్క డిమాండ్ అవసరాలను తీర్చడానికి అవసరమైన వశ్యత, మన్నిక మరియు సామర్థ్యాన్ని అందిస్తుంది. కూలంబ్ మరియు జాన్సెన్-రాహ్బెక్ మోడ్‌లు రెండింటిలోనూ పనిచేయగల సామర్థ్యం, ​​అధిక ఉష్ణోగ్రతలను నిర్వహించడం మరియు కణాల కాలుష్యాన్ని నిరోధించడం, J-R రకం ESC అధిక దిగుబడి మరియు మెరుగైన ప్రక్రియ ఫలితాల సాధనలో కీలకమైన అంశంగా నిలుస్తుంది.