గ్లాస్ కార్బన్ పూత అనుభూతి

సెమికోరెక్స్ గ్లాసీ కార్బన్ పూత సిలికాన్ కార్బైడ్ ఎపిటాక్సియల్ రియాక్టర్లలో లోపలి ఇన్సులేషన్ పొరగా పనిచేస్తుందని భావించింది. ఇది అధునాతన ఉష్ణ వాతావరణాల కోసం రూపొందించిన అధిక-పనితీరు ఇన్సులేషన్ పదార్థం. ఈ ఉత్పత్తి దాని తేలికైన మరియు అద్భుతమైన థర్మల్ ఇన్సులేషన్ లక్షణాల కారణంగా ఉన్నతమైన పరిష్కారాలను అందించడం ద్వారా సాధారణ సెమీకండక్టర్ అధిక-ఉష్ణోగ్రత తయారీ సవాళ్లను అధిగమిస్తుందిగ్రాఫైట్ అనుభూతి, ఒక గ్లాసీ కార్బన్ పూత ద్వారా అందించబడిన ఉపరితల సమగ్రత మరియు రసాయన

బేస్ పదార్థం అధిక స్వచ్ఛతగ్రాఫైట్ అనుభూతితక్కువ ఉష్ణ వాహకత అధిక ఉష్ణోగ్రత స్థిరత్వం మరియు తక్కువ బరువు కోసం ఎంచుకుంది. సాధారణ గ్రాఫైట్ సాధారణంగా ఉపరితల ఫైబర్ షెడ్డింగ్ మరియు ఎత్తైన ఉష్ణోగ్రతల వద్ద కణాల ఉత్పత్తిని కలిగి ఉంటుంది, ఇది సున్నితమైన ఎపిటాక్సియల్ వ్యవస్థలలో ప్రక్రియ వాతావరణాన్ని కలుషితం చేస్తుంది. ఈ సమస్యను తగ్గించడానికి, గ్రాఫైట్ యొక్క ఉపరితలం గ్లాసీ కార్బన్ పొరతో ఒకే విధంగా పూత పూయబడుతుంది-రసాయన జడత్వం, తక్కువ గ్యాస్ పారగమ్యత మరియు అసాధారణమైన ఉష్ణ స్థిరత్వానికి ప్రసిద్ధి చెందిన కార్బన్ యొక్క దట్టమైన, పోరస్ లేని రూపం.

గ్లాస్ కార్బన్ అనేది గడ్డి కాని కార్బన్, ఇది గాజు మరియు సిరామిక్స్ యొక్క లక్షణాలను మిళితం చేస్తుంది. స్ఫటికాకార గ్రాఫైట్‌కు విరుద్ధంగా, ఇది నిరాకార, దాదాపు 100% SP2 హైబ్రిడైజ్డ్ కార్బన్ పదార్థం, ఇది జడ వాయువు వాతావరణంలో ఫినోలిక్ రెసిన్, ఫర్‌ఫ్యూరిల్ ఆల్కహాల్ రెసిన్ మొదలైన పాలిమరైజ్డ్ సేంద్రీయ పూర్వగాముల యొక్క అధిక-ఉష్ణోగ్రత సింటరింగ్ ద్వారా ఏర్పడుతుంది. ఇది అంతటా నల్లగా ఉంటుంది మరియు గాజుతో సమానమైన మృదువైన ఉపరితలం ఉన్నందున దీనిని గ్లాస్ కార్బన్ అంటారు.

గ్లాస్ కార్బన్ పూత కొలిమి కణాల ఉత్పత్తిని తొలగించగలదు, మూసివున్న ఉపరితల రంధ్రాలను అందిస్తుంది, అద్భుతమైన డీమోల్డింగ్ లక్షణాలను కలిగి ఉంటుంది మరియు పారగమ్యతను తగ్గిస్తుంది, ఈ పదార్థం సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమలో నిరంతర కాస్టింగ్ అచ్చులు మరియు ఉత్పత్తులకు చాలా అనుకూలంగా ఉంటుంది. ఈ పదార్థం సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమలో విస్తృతమైన అనువర్తనాలను కలిగి ఉంది, ముఖ్యంగా సింగిల్ క్రిస్టల్ సిలికాన్ లాగడం పరికరాలు, ఎపిటాక్సియల్ గ్రోత్ భాగాలు, నిరంతర కాస్టింగ్ అచ్చులు, గ్లాస్ సీలింగ్ జిగ్స్ వంటి గ్రాఫైట్ భాగాలలో.

గ్లాసీ కార్బన్ జడ వాయువు లేదా వాక్యూమ్‌లో 3000 ° C వరకు అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధకతను కలిగి ఉంది, మరియు అన్ని ఇతర సిరామిక్ మరియు లోహ అధిక ఉష్ణోగ్రత పదార్థాల మాదిరిగా కాకుండా, గ్లాసీ కార్బన్ యొక్క బలం 2700K వరకు పెరుగుతున్న ఉష్ణోగ్రతతో పెరుగుతుంది, మరియు ఇది పెళుసుగా మారదు మరియు చాలా ఎక్కువ ఉష్ణ షాక్ నిరోధకతను కలిగి ఉంటుంది, కాబట్టి చిన్న వేడి మరియు శీతలీకరణ సమయాలు సమస్య కాదు. అదనంగా, గ్లాసీ కార్బన్ తక్కువ ద్రవ్యరాశి, తక్కువ వేడి శోషణ మరియు తక్కువ ఉష్ణ విస్తరణను కలిగి ఉంటుంది, కాబట్టి ఇది దాదాపు అన్ని అధిక ఉష్ణోగ్రత అనువర్తనాలకు అనుకూలంగా ఉంటుంది.

గ్లాసీ కార్బన్ పూత గ్రాఫైట్ యొక్క ఉపరితల రంధ్రాలను మూసివేయడంలో కీలక పాత్ర పోషిస్తుంది, ఆపరేషన్ సమయంలో కణాలు మరియు కార్బన్ ధూళిని విడుదల చేయడం గణనీయంగా తగ్గిస్తుంది. SIC ఎపిటాక్సియల్ వృద్ధి ప్రక్రియలలో ఇది చాలా కీలకం, ఇక్కడ కనీస కాలుష్యం కూడా పొర నాణ్యత మరియు పరికర పనితీరును రాజీ చేస్తుంది. అనుభూతి యొక్క పోరస్ నిర్మాణాన్ని మృదువైన, కఠినమైన గాజు కార్బన్ షెల్ తో కప్పడం ద్వారా, పూత ప్రతిచర్య గదిలో శుభ్రమైన మరియు స్థిరమైన ఉష్ణ వాతావరణాన్ని నిర్ధారిస్తుంది.

గ్లాసీ కార్బన్ పూత యొక్క ముఖ్య ప్రయోజనాలు:

తగ్గిన కణ షెడ్డింగ్: దట్టమైన పూత వదులుగా ఉండే ఫైబర్స్ మరియు కణాలలో సమర్థవంతంగా లాక్ అవుతుంది, పొరలు మరియు రియాక్టర్ భాగాల కలుషితాన్ని నివారిస్తుంది.

అధిక ఉష్ణ స్థిరత్వం: గ్రాఫైట్ ఫీల్ మరియు గ్లాస్ కార్బన్ రెండూ జడ లేదా వాక్యూమ్ వాతావరణంలో 2000 ° C కంటే ఎక్కువ ఉష్ణోగ్రతను తట్టుకోగలవు, ఇది అధిక-ఉష్ణోగ్రత SIC ప్రక్రియలకు ఉత్పత్తిని అనువైనదిగా చేస్తుంది.

రసాయన జడత్వం: గ్లాసీ కార్బన్ ఉపరితలం చాలా ఆమ్లాలు మరియు తినివేయు వాయువులకు నిరోధకతను కలిగి ఉంటుంది, ఇది కఠినమైన పరిస్థితులలో ఇన్సులేషన్ పొర యొక్క కార్యాచరణ జీవితాన్ని విస్తరిస్తుంది.

మెరుగైన ప్రక్రియ అనుగుణ్యత: కనిష్టీకరించబడిన కణాల ఉత్పత్తి మరింత స్థిరమైన మరియు పునరావృతమయ్యే ఎపిటాక్సియల్ వృద్ధి వాతావరణానికి దోహదం చేస్తుంది, ఇది అధిక-నాణ్యత గల SIC పొరలను ఉత్పత్తి చేయడానికి అవసరం.

గ్లాసీ కార్బన్ పూత యొక్క అనువర్తనాలు ప్రధానంగా SIC ఎపిటాక్సియల్ గ్రోత్ ఫర్నేసులకు విస్తరించి ఉన్నాయి, ఇక్కడ దీనిని హాట్ జోన్ లోపల థర్మల్ ఇన్సులేషన్ పొరగా ఉపయోగిస్తారు. ఉత్పత్తి సాధారణంగా ఎగువ లేదా దిగువ ఇన్సులేషన్ స్టాక్‌లలో లైనింగ్ పదార్థంగా వ్యవస్థాపించబడుతుంది, ఇక్కడ ఇది ఉష్ణ రక్షణ మరియు పరిశుభ్రత భరోసా రెండింటినీ అందిస్తుంది.