మోనోక్రిస్టలైన్ సిలికాన్ పొరలు

ఉత్పత్తిలోమోనోక్రిస్టలైన్ సిలికాన్ పొరలు, Czochralski (CZ) పద్ధతి పూర్తి నిర్మాణం మరియు చాలా తక్కువ మలినాలతో మోనోక్రిస్టలైన్ సిలికాన్ రాడ్‌లను ఉత్పత్తి చేయడానికి ఉపయోగించబడుతుంది.

కంటెంట్. అప్పుడు, ఈ మోనోక్రిస్టలైన్ సిలికాన్ కడ్డీలు కటింగ్, గ్రౌండింగ్, పాలిషింగ్ మరియు క్లీనింగ్ వంటి ఖచ్చితమైన ప్రాసెసింగ్‌కు లోనవుతాయి, వీటిని మోనోక్రిస్టలైన్ సిలికాన్ పొరలుగా తయారు చేస్తారు. ఈ మోనోక్రిస్టలైన్ సిలికాన్ పొరలు అధిక స్వచ్ఛతను కలిగి ఉంటాయి, ప్రత్యేకించి IC స్థాయిలో ఉండే పొర, ఇది 9N (99.9999999%) కంటే ఎక్కువ చేరుకోగలదు, ఇది అద్భుతమైన విద్యుత్ పనితీరును సమర్థవంతంగా అందిస్తుంది.

మోనోక్రిస్టలైన్ సిలికాన్ సెమీకండక్టర్ మెటీరియల్ మార్కెట్‌లో 90% కంటే ఎక్కువ ఆక్రమించింది. ఇది ప్రస్తుతం అత్యంత ముఖ్యమైన సెమీకండక్టర్ పదార్థం, ఇది సమాచార సాంకేతికత మరియు ఇంటిగ్రేటెడ్ సర్క్యూట్ తయారీ పరిశ్రమలలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది.

అప్లికేషన్ ప్రాంతాలు:

1.ఇంటిగ్రేటెడ్ సర్క్యూట్ తయారీ పరిశ్రమలో అధిక-పనితీరు గల లాజిక్ చిప్‌లు (CPU、GPU、FPGA వంటివి),  మెమొరీ చిప్స్ (DRAM、NAND ఫ్లాష్ వంటివి), అనలాగ్ చిప్‌లు (ADC మరియు DAC వంటివి).

2. సమాచార సాంకేతిక పరిశ్రమలో హై-ఎండ్ ఎలక్ట్రానిక్ పరికరాలు ( CMOS ఇమేజ్ సెన్సార్‌లు (CIS) మరియు MEMS సెన్సార్‌లు వంటివి).

పొర స్పెసిఫికేషన్:

సెమికోరెక్స్ తన కస్టమర్ల కోసం అనుకూలీకరించిన సేవలను అందిస్తుంది మరియు వివిధ కస్టమర్ల నిర్దిష్ట అవసరాలకు అనుగుణంగా వివిధ రెసిస్టివిటీ, ఆక్సిజన్ కంటెంట్, మందం మరియు ఇతర స్పెసిఫికేషన్‌లతో పొరలను అనుకూలీకరించవచ్చు. ఉత్పత్తి ప్రక్రియ అంతటా ఉత్పన్నమయ్యే సమస్యల శ్రేణిని పరిష్కరించడంలో క్లయింట్‌లకు సహాయం చేయడానికి, మేము నిపుణులైన సాంకేతిక మద్దతును మరియు అమ్మకాల తర్వాత సేవను కూడా అందిస్తాము.