- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
కంపెనీ వార్తలు
CVD ఆపరేషన్లలో ప్లాస్మా ప్రక్రియలు
రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (CVD) అనేది ఒక ప్రక్రియ సాంకేతికతను సూచిస్తుంది, ఇక్కడ వివిధ పాక్షిక పీడనాల వద్ద బహుళ వాయు ప్రతిచర్యలు నిర్దిష్ట ఉష్ణోగ్రత మరియు పీడన పరిస్థితులలో రసాయన ప్రతిచర్యకు లోనవుతాయి. ఫలితంగా ఘన పదార్ధం ఉపరితల పదార్థం యొక్క ఉపరితలంపై నిక్షిప్తమవుతుంది, తద్వారా కావలసిన సన్నని చలనచిత్రాన్......
ఇంకా చదవండి
సెమీకండక్టర్ తయారీలో సిలికాన్ ఎపిటాక్సియల్ పొరలు మరియు సబ్‌స్ట్రేట్‌లు
ఆధునిక ఎలక్ట్రానిక్స్, ఆప్టోఎలక్ట్రానిక్స్, మైక్రోఎలక్ట్రానిక్స్ మరియు ఇన్ఫర్మేషన్ టెక్నాలజీ ఫీల్డ్‌లలో, సెమీకండక్టర్ సబ్‌స్ట్రేట్‌లు మరియు ఎపిటాక్సియల్ టెక్నాలజీలు అనివార్యమైనవి. వారు అధిక-పనితీరు, అధిక-విశ్వసనీయత కలిగిన సెమీకండక్టర్ పరికరాల తయారీకి బలమైన పునాదిని అందిస్తారు. సాంకేతికత అభివృద్ధి చె......
ఇంకా చదవండి
మొదటి 6-అంగుళాల గాలియం ఆక్సైడ్ సబ్‌స్ట్రేట్ పారిశ్రామికీకరణ కంపెనీ
ఇటీవల, మా కంపెనీ కాస్టింగ్ పద్ధతిని ఉపయోగించి 6-అంగుళాల గాలియం ఆక్సైడ్ సింగిల్ క్రిస్టల్‌ను విజయవంతంగా అభివృద్ధి చేసిందని ప్రకటించింది, 6-అంగుళాల గాలియం ఆక్సైడ్ సింగిల్ క్రిస్టల్ సబ్‌స్ట్రేట్ తయారీ సాంకేతికతలో నైపుణ్యం సాధించిన మొదటి దేశీయ పారిశ్రామిక సంస్థగా అవతరించింది.
ఇంకా చదవండి
థర్మల్ ఫీల్డ్ ఇన్సులేషన్ పదార్థం
మోనోక్రిస్టలైన్ సిలికాన్ పెరుగుదల ప్రక్రియ ప్రధానంగా థర్మల్ ఫీల్డ్‌లో జరుగుతుంది, ఇక్కడ ఉష్ణ వాతావరణం యొక్క నాణ్యత క్రిస్టల్ నాణ్యత మరియు పెరుగుదల సామర్థ్యాన్ని గణనీయంగా ప్రభావితం చేస్తుంది. ఫర్నేస్ చాంబర్‌లో ఉష్ణోగ్రత ప్రవణతలు మరియు గ్యాస్ ఫ్లో డైనమిక్‌లను రూపొందించడంలో థర్మల్ ఫీల్డ్ రూపకల్పన కీలక ......
ఇంకా చదవండి
