తెలుగు
హోమ్ > వార్తలు

వార్తలు

ది ఫ్యూజన్ ఆఫ్ AI మరియు ఫిజిక్స్: నోబెల్ ప్రైజ్ వెనుక CVD టెక్నలాజికల్ ఇన్నోవేషన్

ది ఫ్యూజన్ ఆఫ్ AI మరియు ఫిజిక్స్: నోబెల్ ప్రైజ్ వెనుక CVD టెక్నలాజికల్ ఇన్నోవేషన్

భౌతిక శాస్త్రంలో 2024 నోబెల్ బహుమతి ఇటీవలి ప్రకటన కృత్రిమ మేధస్సు రంగంపై అపూర్వమైన దృష్టిని తీసుకువచ్చింది.

ఇంకా చదవండి
సెమీకండక్టర్ డోపింగ్ ప్రక్రియ

సెమీకండక్టర్ డోపింగ్ ప్రక్రియ

సెమీకండక్టర్ మెటీరియల్స్ యొక్క ప్రత్యేక లక్షణాలలో ఒకటి, వాటి వాహకత, అలాగే వాటి వాహకత రకం (N-రకం లేదా P-రకం), డోపింగ్ అనే ప్రక్రియ ద్వారా సృష్టించబడతాయి మరియు నియంత్రించబడతాయి. పొర యొక్క ఉపరితలంపై జంక్షన్‌లను ఏర్పరచడానికి పదార్థంలోకి డోపాంట్లు అని పిలువబడే ప్రత్యేకమైన మలినాలను ప్రవేశపెట్టడం ఇందులో ఉం......

ఇంకా చదవండి
PECVD ప్రక్రియ

PECVD ప్రక్రియ

ప్లాస్మా ఎన్‌హాన్స్‌డ్ కెమికల్ వేపర్ డిపోజిషన్ (PECVD) అనేది చిప్ తయారీలో విస్తృతంగా ఉపయోగించే సాంకేతికత. ఇది గ్యాస్ దశలో రసాయన ప్రతిచర్యలను సక్రియం చేయడానికి ప్లాస్మాలోని ఎలక్ట్రాన్ల యొక్క గతి శక్తిని ఉపయోగించుకుంటుంది, తద్వారా సన్నని-పొర నిక్షేపణను సాధిస్తుంది.

ఇంకా చదవండి
సిలికాన్ కార్బైడ్ వేఫర్ ప్రాసెసింగ్‌లో లోపాన్ని గుర్తించడం

సిలికాన్ కార్బైడ్ వేఫర్ ప్రాసెసింగ్‌లో లోపాన్ని గుర్తించడం

SiC సబ్‌స్ట్రేట్‌లు సిలికాన్ కార్బైడ్ పరిశ్రమలో అత్యంత కీలకమైన భాగం, దీని విలువలో దాదాపు 50% వాటా ఉంది. SiC సబ్‌స్ట్రేట్‌లు లేకుండా, SiC పరికరాలను తయారు చేయడం అసాధ్యం, వాటిని అవసరమైన మెటీరియల్ పునాదిగా చేస్తుంది.

ఇంకా చదవండి
డమ్మీ వేఫర్ అంటే ఏమిటి

డమ్మీ వేఫర్ అంటే ఏమిటి

డమ్మీ వేఫర్ అనేది పొర తయారీ ప్రక్రియలో యంత్ర పరికరాలను పూరించడానికి ప్రధానంగా ఉపయోగించే ఒక ప్రత్యేకమైన పొర.

ఇంకా చదవండి
GaN యొక్క అప్లికేషన్

GaN యొక్క అప్లికేషన్

అనేక రకాల గాలియం నైట్రైడ్ (GaN) ఉన్నాయి, సిలికాన్-ఆధారిత GaN ఎక్కువగా చర్చించబడింది. ఈ సాంకేతికతలో నేరుగా సిలికాన్ సబ్‌స్ట్రేట్‌పై GaN పదార్థాలను పెంచడం జరుగుతుంది.

ఇంకా చదవండి
<...56789...37>
శోధించడానికి ఎంటర్ నొక్కండి లేదా మూసివేయడానికి ESC
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept