దృ grap మైన గ్రాఫైట్ అనుభూతి చెందింది

మృదువైన అనుభూతి లామినేషన్ క్యూరింగ్ మరియు తడి ఏర్పడటం ద్వారా దృ grap మైన గ్రాఫైట్ అనుభూతి చెందుతుంది. కార్బన్ ఫైబర్ గ్రాఫైట్‌ను హార్డ్ చేయడానికి సాధారణ లామినేషన్ పద్ధతి ముడి పదార్థంగా మృదువుగా భావించినట్లు భావించింది. ఉత్పత్తి ప్రక్రియ కట్టింగ్‌తో మొదలవుతుంది: మృదువైన అనుభూతి నుండి తుది హార్డ్ ఫీల్ సైజు కంటే కొంచెం పెద్ద ఖాళీలను కత్తిరించడం. కత్తిరించిన తరువాత, ఇది రెసిన్ మరియు ఇతర బంధన పదార్థాలతో కలిపి ఉంటుంది, మరియు అవసరమైన కఠినమైన అనుభూతి మందం ప్రకారం కలిపిన ఖాళీలు బహుళ పొరలలో పేర్చబడతాయి.

మృదువైన అనుభూతి ఉత్పత్తిలో చొప్పించడం ప్రధానంగా ఉత్ప్రేరకాలతో కలిపి, తరువాతి ఉష్ణ చికిత్సలో విస్కోస్ ఫైబర్స్ మరింత స్థిరంగా ఉండటానికి; దృ grap మైన గ్రాఫైట్ అనుభూతి యొక్క చొప్పించడం ప్రధానంగా థర్మోసెట్టింగ్ రెసిన్తో కలిపి ఉంటుంది. తరువాతి తాపన మరియు క్యూరింగ్ ప్రక్రియలో, ద్రవ రెసిన్ పటిష్టం అవుతుంది, మరియు మృదువైన అనుభూతి యొక్క బహుళ పొరలు రెసిన్తో గట్టిగా కలిపి ఏర్పడతాయి.

రెసిన్ + కార్బన్ ఫైబర్ గ్రాఫైట్ సాఫ్ట్ కొన్ని లక్షణాలలో "1 + 1> 2" యొక్క ప్రభావాన్ని సాధించడానికి పదార్థాన్ని అనుమతిస్తుంది. తాపన మరియు క్యూరింగ్ తరువాత, రెసిన్తో కలిపిన బహుళ-లేయర్డ్ మృదువైన అనుభూతి ఇకపై మృదువైన అనుభూతి వలె చుట్టబడదు మరియు పదార్థం యొక్క సాంద్రత మరియు సంపీడన బలం కూడా పెరుగుతుంది.

సింగిల్ స్ఫటికాల పివిటి పెరుగుదల సమయంలో, కార్బన్ ఫైబర్ వేడి సంరక్షణలో పాత్ర పోషిస్తుందని భావించింది. SIC స్ఫటికాల విజయవంతమైన పెరుగుదలకు దృ grap మైన గ్రాఫైట్ అనుభూతి యొక్క స్వచ్ఛత చాలా ముఖ్యమైనది. ఇన్సులేషన్‌లోని మలినాలు వృద్ధి ప్రక్రియలో అశుద్ధ కాలుష్యం యొక్క వనరులలో ఒకటి. కార్బన్ ఫైబర్ ఫీడ్‌లోని కీ అశుద్ధ అంశాల యొక్క కంటెంట్ 10-6 కంటే తక్కువగా నియంత్రించబడుతుంది మరియు మొత్తం బూడిద కంటెంట్ ఖచ్చితంగా నియంత్రించబడాలి. పేటెంట్ ప్రకారం, ఇది ప్రతి దశలో బహుళ గ్యాస్ సర్క్యులేషన్ చికిత్స పద్ధతులను అవలంబిస్తుంది, ప్రతి దశలో బహుళ గ్యాస్ సర్క్యులేషన్ దశలను ఉపయోగించి హై-మెల్టింగ్ పాయింట్ మలినాలను తక్కువ-కరిగే పాయింట్ సమ్మేళనాలుగా మార్చడానికి, మరియు అశుద్ధమైన వాయువులను విడుదల చేయడానికి, చివరకు అధిక-స్వచ్ఛత కార్బన్ ఫైబర్ అనుభూతి చెందుతుంది, దీని బూడిద కంటెంట్ 20mg · kg, మరియు fy, fy, fy for కంటే తక్కువగా ఉంటుంది.

ఉష్ణోగ్రత ఫీల్డ్ మరియు గ్యాస్ ఫ్లో ఫీల్డ్ ఏకరూపత నియంత్రణతో సహా ఫ్లో ఫీల్డ్ ఏకరూప నియంత్రణకు కీలకమైన సాంకేతిక పరిజ్ఞానాలను కూడా దృ grap మైన గ్రాఫైట్ భావించింది. ఉష్ణోగ్రత పరిహార ప్రాంతాలు, మల్టీ-జోన్ స్వతంత్ర ఉష్ణోగ్రత నియంత్రణ మరియు హీటర్ యొక్క ఆకారం మరియు లేఅవుట్ను మార్చడం ద్వారా ఉష్ణోగ్రత క్షేత్రం సింగిల్ క్రిస్టల్ కొలిమిలో ఏకరీతిలో ఉంటుంది.