సిలికాన్ ఎపిటాక్సీ కోసం SiC బారెల్

సిలికాన్ ఎపిటాక్సీ కోసం సెమికోరెక్స్ SiC బారెల్ సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC)తో పూసిన గ్రాఫైట్ పదార్థాన్ని ఉపయోగించి నిర్మించబడింది. ఈ ప్రత్యేకమైన నిర్మాణం థర్మల్ షాక్‌లు మరియు రసాయన క్షీణతకు అద్భుతమైన ప్రతిఘటనను నిర్ధారిస్తుంది, ససెప్టర్ యొక్క జీవితకాలం పొడిగించడం మరియు ప్రక్రియ విశ్వసనీయతను నిర్వహించడం.

సిలికాన్ ఎపిటాక్సీ కోసం SiC బారెల్‌పై అధునాతన SiC పూత ఉన్నతమైన ఉష్ణ వాహకత మరియు ఉష్ణ పంపిణీని అందిస్తుంది, ససెప్టర్ అంతటా ఏకరీతి ఉష్ణోగ్రత ప్రొఫైల్‌లను ప్రోత్సహిస్తుంది. ఇది ప్రక్రియ నియంత్రణను మెరుగుపరుస్తుంది, థర్మల్ ప్రవణతలను తగ్గిస్తుంది మరియు స్థిరమైన ఎపిటాక్సియల్ పొర పెరుగుదలను నిర్ధారిస్తుంది, దీని ఫలితంగా అసాధారణమైన ఏకరూపత మరియు స్వచ్ఛతతో అధిక-నాణ్యత సిలికాన్ ఫిల్మ్‌లు లభిస్తాయి.

సిలికాన్ ఎపిటాక్సీ కోసం మా SiC బారెల్ నిర్దిష్ట అవసరాలు మరియు ప్రాధాన్యతలకు అనుగుణంగా అనుకూలీకరించవచ్చు. పరిమాణ సర్దుబాట్ల నుండి పూత మందం వైవిధ్యాల వరకు, మేము వివిధ ప్రాసెస్ పారామితులకు అనుగుణంగా మరియు నిర్దిష్ట అప్లికేషన్‌ల పనితీరును ఆప్టిమైజ్ చేయడానికి డిజైన్‌లో సౌలభ్యాన్ని అందిస్తాము.

సిలికాన్ ఎపిటాక్సీ కోసం మా SiC బారెల్ విశ్వసనీయత మరియు దీర్ఘాయువును అందిస్తుంది, తరచుగా రీప్లేస్‌మెంట్‌లతో సంబంధం ఉన్న పనికిరాని సమయం మరియు నిర్వహణ ఖర్చులను తగ్గిస్తుంది. దీని దృఢమైన నిర్మాణం మరియు అసాధారణమైన పనితీరు మెరుగైన ప్రక్రియ సామర్థ్యానికి దోహదపడుతుంది, చివరికి సెమీకండక్టర్ తయారీ కార్యకలాపాలకు ఉత్పాదకత మరియు వ్యయ-ప్రభావాన్ని పెంచుతుంది.