మూడు రేకుల గ్రాఫైట్ క్రూసిబుల్

సెమికోరెక్స్ త్రీ-పెటల్ గ్రాఫైట్ క్రూసిబుల్ (మూడు-భాగాలు లేదా సెగ్మెంటెడ్ గ్రాఫైట్ క్రూసిబుల్ అని కూడా పిలుస్తారు) అధునాతన సెమీకండక్టర్ పదార్థాల థర్మల్ ప్రాసెసింగ్‌లో గణనీయమైన ఇంజనీరింగ్ పురోగతిని సూచిస్తుంది. అల్ట్రా-హై-ప్యూరిటీ ఐసోస్టాటిక్ గ్రాఫైట్ నుండి ఖచ్చితత్వంతో తయారు చేయబడిన ఈ ప్రత్యేక నౌకను తరువాతి తరం క్రిస్టల్ పెరుగుదల యొక్క విపరీతమైన ఉష్ణ మరియు రసాయన వాతావరణాలను తట్టుకునేలా, ప్రత్యేకించి సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC) సబ్లిమేషన్ కోసం భౌతిక ఆవిరి రవాణా (PVT) మరియు monocrystaling ఉత్పత్తి ద్వారా రూపొందించబడింది.

సాంప్రదాయక వన్-పీస్ మోనోలిథిక్ క్రూసిబుల్స్ వలె కాకుండా, వినూత్నమైన మూడు-రేకుల విభాగ నిర్మాణం ఉన్నతమైన యాంత్రిక ఉపశమనాన్ని అందిస్తుంది, పెరుగుతున్న క్రిస్టల్ మ్యాట్రిక్స్‌ను పగుళ్లు లేకుండా లేదా ఒత్తిడి లేకుండా వేగవంతమైన ఉష్ణ చక్రాల కింద క్రూసిబుల్ ఏకరీతిగా విస్తరించడానికి మరియు కుదించడానికి అనుమతిస్తుంది.

ప్రధాన ఉత్పత్తి ప్రయోజనాలు & ఇంజనీరింగ్ ఎక్సలెన్స్

1. స్ట్రెస్-రిలీవింగ్ త్రీ-పెటల్ ఆర్కిటెక్చర్

సిగ్నేచర్ త్రీ-సెగ్మెంట్ స్ప్లిట్ డిజైన్ ఒక సాధారణ పరిశ్రమ నొప్పి పాయింట్‌ను పరిష్కరించడానికి రూపొందించబడింది:ఉష్ణ విస్తరణ అసమతుల్యత. సెమీకండక్టర్ స్ఫటికీకరణ యొక్క తీవ్రమైన వేడి మరియు శీతలీకరణ దశలలో, ఏకశిలా క్రూసిబుల్స్ తరచుగా స్థానికీకరించిన ఒత్తిడిని అనుభవిస్తాయి, ఇది నిర్మాణ వైకల్యానికి లేదా అకాల వైఫల్యానికి దారితీస్తుంది. ఇంటర్‌లాకింగ్ మూడు-రేకుల నిర్మాణం నియంత్రిత మైక్రోస్కోపిక్ ఫ్లెక్స్‌ను అందిస్తుంది, ఉష్ణ ఒత్తిడిని గణనీయంగా తగ్గిస్తుంది, క్రూసిబుల్ క్రాకింగ్ ప్రమాదాన్ని తొలగిస్తుంది మరియు భాగం యొక్క కార్యాచరణ జీవితకాలం పొడిగిస్తుంది.

2. అల్ట్రా-హై ప్యూరిటీ కార్బన్ సబ్‌స్ట్రేట్

అధిక-దిగుబడి సెమీకండక్టర్ వృద్ధికి కాలుష్యం అంతిమ శత్రువు. మా మూడు-రేకుల క్రూసిబుల్స్ బూడిదను తగ్గించడానికి మరియు మెటల్ కంటెంట్‌ను గుర్తించడానికి కఠినమైన రసాయన మరియు ఉష్ణ శుద్దీకరణ ప్రక్రియలకు లోనవుతాయి5 ppm కంటే తక్కువ. ఇది ఫర్నేస్ లోపల అనూహ్యంగా పరిశుభ్రమైన వాతావరణాన్ని నిర్ధారిస్తుంది, కరిగే లేదా ఆవిరి దశలో అస్థిర మలినాలను వ్యాప్తి చేయడాన్ని నిరోధిస్తుంది మరియు తుది పొర చిప్ యొక్క విద్యుత్ సమగ్రతను సంరక్షిస్తుంది.

3. అసాధారణమైన థర్మల్ ప్రొఫైల్ ఏకరూపత

దోషరహిత సింగిల్-క్రిస్టల్ నిర్మాణాన్ని సాధించడానికి థర్మల్ ప్రవణతలపై ఖచ్చితమైన నియంత్రణ అవసరం. మేము ఎంచుకున్న ఐసోస్టాటిక్ గ్రాఫైట్ గ్రేడ్ యొక్క అధిక ఉష్ణ వాహకత మూడు విభాగాలలో వేగవంతమైన, ఏకరీతి ఉష్ణ బదిలీకి హామీ ఇస్తుంది. ఈ ఏకరీతి థర్మల్ ప్రొఫైల్ స్థానికీకరించిన "హాట్ స్పాట్‌లను" తొలగిస్తుంది, ఇది ఖచ్చితంగా ఫ్లాట్ ఘనీభవన ఫ్రంట్‌ను ప్రోత్సహిస్తుంది మరియు పెరుగుతున్న క్రిస్టల్ కడ్డీలో స్థానభ్రంశం వంటి లోపాలను తగ్గిస్తుంది.

4. అధునాతన ఉపరితల పూతలు (ఐచ్ఛికం)

SiC క్రిస్టల్ పుల్లింగ్ యొక్క కఠినమైన డిమాండ్లను తీర్చడానికి-ఉష్ణోగ్రతలు 2000℃ కంటే ఎక్కువ తినివేయు వాతావరణాలలో-ఈ క్రూసిబుల్స్ ప్రత్యేకతతో మెరుగుపరచబడతాయి.టాంటాలమ్ కార్బైడ్ (TaC)లేదాసిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC)రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (CVD) పూతలు. ఈ రక్షిత అవరోధం రియాక్టివ్ గ్యాస్ కోతకు వ్యతిరేకంగా అసమానమైన ప్రతిఘటనను అందిస్తుంది మరియు కార్బన్ అవుట్‌గ్యాసింగ్‌ను నిరోధిస్తుంది.

ప్రాథమిక అప్లికేషన్లు

మా మూడు-రేకుల గ్రాఫైట్ క్రూసిబుల్స్ అధునాతన పారిశ్రామిక హాట్ జోన్‌లలో విస్తృతంగా అమలు చేయబడ్డాయి:

సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC) క్రిస్టల్ గ్రోత్: ఎలక్ట్రిక్ వాహనాలు (EVలు) మరియు గ్రీన్ ఎనర్జీ గ్రిడ్‌లలో ఉపయోగించే వైడ్-బ్యాండ్‌గ్యాప్ పవర్ ఎలక్ట్రానిక్స్‌కు కీలకం.

Czochralski (CZ) & PVT పద్ధతులు: అధిక-ఉష్ణోగ్రత ఇండక్షన్ లేదా రెసిస్టెన్స్ ఫర్నేస్‌లలో అధిక-బలమైన బాహ్య సహాయక షెల్ లేదా డైరెక్ట్ కంటైన్‌మెంట్ వెసెల్‌గా అనువైనది.

కాంపౌండ్ సెమీకండక్టర్ సింథసిస్: నెక్స్ట్-జెన్ సబ్‌స్ట్రేట్ మెటీరియల్స్ యొక్క అధిక-స్వచ్ఛత ప్రాసెసింగ్‌కు అనుకూలం.

సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమ కోసం అధునాతన మెటీరియల్ సొల్యూషన్‌ల యొక్క ప్రముఖ ప్రొవైడర్‌గా, మా తయారీ ప్రక్రియలు పూర్తిగా ఆటోమేటెడ్ సిస్టమ్‌ల ద్వారా కఠినంగా నియంత్రించబడతాయి. ప్రతి మూడు-రేకుల గ్రాఫైట్ క్రూసిబుల్ కఠినమైన నాన్-డిస్ట్రక్టివ్ టెస్టింగ్, ఖచ్చితమైన కోఆర్డినేట్ కొలత తనిఖీలు మరియు ఖచ్చితమైన స్వచ్ఛత ధ్రువీకరణకు లోనవుతుంది. మేము ఊహాజనిత, అత్యధికంగా పునరావృతమయ్యే ఉష్ణ పనితీరును అందజేస్తాము, సెమీకండక్టర్ ఫ్యాబ్‌లు దిగుబడిని పెంచడానికి, పనికిరాని సమయాన్ని తగ్గించడానికి మరియు యాజమాన్యం యొక్క మొత్తం వ్యయాన్ని తగ్గించడానికి అనుమతిస్తుంది.