ఆల్న్ హీటర్లు

సెమీకండక్టర్ కోసం సెమికోరెక్స్ ఆల్న్ హీటర్లు సెమీకండక్టర్ పదార్థాలను వేడి చేయడానికి ఉపయోగించే పరికరం. ఇది ప్రధానంగా తయారు చేయబడిందిఅల్యూమినియం నైట్రైడ్ సిరామిక్పదార్థం, అద్భుతమైన ఉష్ణ వాహకత మరియు అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధకతను కలిగి ఉంటుంది మరియు అధిక ఉష్ణోగ్రతల వద్ద స్థిరంగా పనిచేస్తుంది. హీటర్ సాధారణంగా నిరోధక తీగను తాపన అంశంగా ఉపయోగిస్తుంది. వేడెక్కడానికి నిరోధక తీగను శక్తివంతం చేయడం ద్వారా, సెమీకండక్టర్ పదార్థం యొక్క తాపనను సాధించడానికి వేడి హీటర్ యొక్క ఉపరితలానికి బదిలీ చేయబడుతుంది. సెమీకండక్టర్ కోసం ఆల్న్ హీటర్లు సెమీకండక్టర్ ఉత్పత్తి ప్రక్రియలో ముఖ్యమైన పాత్ర పోషిస్తాయి మరియు క్రిస్టల్ గ్రోత్, ఎనియలింగ్ మరియు బేకింగ్ వంటి ప్రక్రియలలో ఉపయోగించవచ్చు.

సెమీకండక్టర్ తయారీ యొక్క ఫ్రంట్-ఎండ్ ప్రాసెస్ (FEOL) లో, వివిధ ప్రక్రియ చికిత్సలు పొరపై చేయాలి, ముఖ్యంగా పొరను ఒక నిర్దిష్ట ఉష్ణోగ్రతకు వేడి చేయాలి మరియు కఠినమైన అవసరాలు ఉన్నాయి, ఎందుకంటే ఉష్ణోగ్రత యొక్క ఏకరూపత ఉత్పత్తి దిగుబడిపై చాలా ముఖ్యమైన ప్రభావాన్ని కలిగి ఉంటుంది; అదే సమయంలో, సెమీకండక్టర్ పరికరాలు వాక్యూమ్, ప్లాస్మా మరియు రసాయన వాయువులు ఉన్న వాతావరణంలో కూడా పని చేయాలి, దీనికి సిరామిక్ హీటర్లు (సిరామిక్ హీటర్) వాడకం అవసరం. సిరామిక్ హీటర్లు సెమీకండక్టర్ సన్నని ఫిల్మ్ డిపాజిషన్ పరికరాల యొక్క ముఖ్యమైన భాగాలు. ఇవి ప్రాసెస్ ఛాంబర్‌లో ఉపయోగించబడతాయి మరియు నేరుగా పొరను సంప్రదించండి, స్థిరమైన మరియు ఏకరీతి ప్రక్రియ ఉష్ణోగ్రత పొందటానికి పొరను తీసుకువెళ్ళడానికి మరియు వీలు కల్పిస్తుంది మరియు అధిక ఖచ్చితత్వంతో పొర ఉపరితలంపై సన్నని ఫిల్మ్‌లను ప్రతిస్పందించడానికి మరియు ఉత్పత్తి చేయడానికి వీలు కల్పిస్తుంది.

సిరామిక్ హీటర్ల కోసం సన్నని ఫిల్మ్ డిపాజిషన్ పరికరాలు సాధారణంగా సిరామిక్ పదార్థాలను ఉపయోగిస్తాయిఅల్యూమినియంఅధిక ఉష్ణోగ్రతలు ఉన్నందున. అల్యూమినియం నైట్రైడ్ ఎలక్ట్రికల్ ఇన్సులేషన్ మరియు అద్భుతమైన ఉష్ణ వాహకత కలిగి ఉంది; అదనంగా, దాని ఉష్ణ విస్తరణ గుణకం సిలికాన్‌కు దగ్గరగా ఉంటుంది, మరియు ఇది అద్భుతమైన ప్లాస్మా నిరోధకతను కలిగి ఉంది, ఇది సెమీకండక్టర్ పరికర భాగాలుగా ఉపయోగించడానికి చాలా అనుకూలంగా ఉంటుంది.

ఆల్న్ హీటర్లలో పొరను తీసుకువెళ్ళే సిరామిక్ బేస్ మరియు వెనుక భాగంలో మద్దతు ఇచ్చే స్థూపాకార మద్దతు శరీరం ఉన్నాయి. సిరామిక్ బేస్ యొక్క ఉపరితలం లోపల లేదా, తాపన కోసం నిరోధక మూలకం (తాపన పొర) తో పాటు, RF ఎలక్ట్రోడ్ (RF పొర) కూడా ఉంటుంది. వేగవంతమైన తాపన మరియు శీతలీకరణను సాధించడానికి, సిరామిక్ బేస్ యొక్క మందం సన్నగా ఉండాలి, కానీ చాలా సన్నగా కూడా దృ g త్వాన్ని తగ్గిస్తుంది. ALN హీటర్ల యొక్క మద్దతు శరీరం సాధారణంగా బేస్ మాదిరిగానే ఉష్ణ విస్తరణ గుణకం ఉన్న పదార్థంతో తయారు చేయబడుతుంది, కాబట్టి మద్దతు శరీరం తరచుగా అల్యూమినియం నైట్రైడ్‌తో కూడా తయారు చేయబడుతుంది. ప్లాస్మా మరియు తినివేయు రసాయన వాయువుల ప్రభావాల నుండి టెర్మినల్స్ మరియు వైర్లను రక్షించడానికి ఆల్న్ హీటర్లు షాఫ్ట్ (షాఫ్ట్) ఉమ్మడి దిగువ యొక్క ప్రత్యేకమైన నిర్మాణాన్ని అవలంబిస్తాయి. హీటర్ యొక్క ఏకరీతి ఉష్ణోగ్రతను నిర్ధారించడానికి సహాయ శరీరంలో ఉష్ణ బదిలీ గ్యాస్ ఇన్లెట్ మరియు అవుట్లెట్ పైపు అందించబడుతుంది. బేస్ మరియు సపోర్ట్ బాడీ ఒక బంధన పొరతో రసాయనికంగా బంధించబడతాయి.

ప్రతిఘటన తాపన మూలకం హీటర్ బేస్ లో ఖననం చేయబడింది. ఇది మురి లేదా కేంద్రీకృత సర్కిల్ సర్క్యూట్ నమూనాను ఏర్పరచటానికి వాహక పేస్ట్ (టంగ్స్టన్, మాలిబ్డినం లేదా టాంటాలమ్) తో స్క్రీన్ ప్రింటింగ్ ద్వారా ఏర్పడుతుంది. వాస్తవానికి, మెటల్ వైర్, మెటల్ మెష్, మెటల్ రేకు మొదలైనవి కూడా ఉపయోగించవచ్చు. స్క్రీన్ ప్రింటింగ్ పద్ధతిని ఉపయోగిస్తున్నప్పుడు, ఒకే ఆకారంలో ఉన్న రెండు సిరామిక్ ప్లేట్లు తయారు చేయబడతాయి మరియు వాటిలో ఒకదాని ఉపరితలంపై వాహక పేస్ట్ వర్తించబడుతుంది. అప్పుడు, ఇది నిరోధక తాపన మూలకాన్ని ఏర్పరచటానికి సైనర్డ్ చేయబడుతుంది, మరియు ఇతర సిరామిక్ ప్లేట్ బేస్ లో ఖననం చేయబడిన రెసిస్టర్ మూలకాన్ని తయారు చేయడానికి రెసిస్టివ్ హీటింగ్ ఎలిమెంట్‌తో అతివ్యాప్తి చెందుతుంది.

అల్యూమినియం నైట్రైడ్ సిరామిక్స్ యొక్క ఉష్ణ వాహకతను ప్రభావితం చేసే ప్రధాన కారకాలు లాటిస్ యొక్క సాంద్రత, ఆక్సిజన్ కంటెంట్, పౌడర్ ప్యూరిటీ, మైక్రోస్ట్రక్చర్ మొదలైనవి, ఇవి అల్యూమినియం నైట్రైడ్ సిరామిక్స్ యొక్క ఉష్ణ వాహకతను ప్రభావితం చేస్తాయి.