SiC ఫిన్

సెమికోరెక్స్ SiC ఫిన్ అనేది అధిక-పనితీరు గల భాగంసిలికాన్ కార్బైడ్ సిరామిక్, ఇది సెమీకండక్టర్ ఎపిటాక్సీ మరియు ఎచింగ్ సిస్టమ్‌లలో ఉపయోగం కోసం రూపొందించబడింది. విభిన్న వ్యాసాల యొక్క వివిధ డ్రిల్లింగ్ రంధ్రాలతో వృత్తాకార, డిస్క్-ఆకారపు ముక్కగా రూపొందించబడిన SiC ఫిన్ అనేది అధిక-ఉష్ణోగ్రత లేదా ప్లాస్మా ప్రాసెసింగ్ సమయంలో ప్రవాహ-నమూనా పదార్థాలు మరియు వాయువులు లేదా ద్రవ ప్రసరించే ఎగ్జాస్ట్ నిర్వహణకు కీలకమైన భాగం. దాని నిర్మాణ పనితీరు, అద్భుతమైన తుప్పు-నిరోధకత మరియు అధిక ఉష్ణ స్థిరత్వం కారణంగా, సెమీకండక్టర్ల కోసం అధునాతన తయారీకి SiC ఫిన్ కీలకం.

SiC ఫిన్ అధిక స్వచ్ఛత నుండి తయారు చేయబడిందిసిలికాన్ కార్బైడ్అధునాతన ఏర్పాటు మరియు సింటరింగ్ ప్రక్రియలను ఉపయోగించి పొడి. అందువలన, ఇది అధిక ఉష్ణ మరియు రసాయన పరిస్థితులలో అద్భుతమైన యాంత్రిక బలం మరియు స్థిరత్వం కలిగి ఉంటుంది. అధిక కాఠిన్యం, తక్కువ ఉష్ణ విస్తరణ మరియు అద్భుతమైన రసాయన జడత్వం వంటి సిలికాన్ కార్బైడ్ యొక్క ప్రత్యేక భౌతిక లక్షణాలు EPI మరియు ఎచింగ్ ప్రక్రియల లక్షణం అయిన అధిక-ఉష్ణోగ్రత ప్లాస్మా లేదా రియాక్టివ్ గ్యాస్ పరిసరాలలో ఫిన్‌ను నిర్మాణాత్మక అంశంగా అనుమతిస్తుంది.

కాంపోనెంట్ యొక్క డిస్క్ స్ట్రక్చర్, ఖచ్చితంగా డ్రిల్లింగ్ రంధ్రాలతో పూర్తయింది, ప్రాసెస్ ఛాంబర్‌ల అంతటా వాయువులు మరియు ద్రవాల నియంత్రిత ప్రవాహాలను అనుమతిస్తుంది. అప్లికేషన్‌పై ఆధారపడి, పొర ప్రక్రియ సమయంలో శుభ్రమైన మరియు స్థిరమైన వాతావరణం కోసం ఉప-ఉత్పత్తుల ప్రవాహాన్ని లేదా డ్రైనేజీని నిర్వహించడానికి రంధ్రాలను కాన్ఫిగర్ చేయవచ్చు. ఎపిటాక్సీ అప్లికేషన్‌లో, ఉదాహరణకు, SiC ఫిన్ ప్రక్రియ వాయువులు లేదా కండెన్సేట్ ప్రవాహాలను నిర్దేశించడంలో సహాయపడుతుంది, తద్వారా ఫిల్మ్ ఏకరూపతను పెంచుతుంది మరియు కణ కాలుష్యాన్ని తగ్గిస్తుంది. ఎచ్ టూల్స్‌లో, రసాయన క్షీణత నుండి హాని కలిగించే చాంబర్ భాగాలను రక్షించే రియాక్టివ్ జాతులు మరియు ద్రవ ఉప-ఉత్పత్తుల సురక్షితమైన మరియు సమర్థవంతమైన తొలగింపుకు ఇది ప్రభావవంతంగా ఉంటుంది.

ప్రతి సెమికోరెక్స్ SiC ఫిన్ చాలా గట్టి టాలరెన్స్‌లతో తయారు చేయబడింది మరియు అద్భుతమైన ఉపరితల ఫ్లాట్‌నెస్ మరియు డైమెన్షనల్ ఖచ్చితత్వాన్ని అందించడానికి పాలిష్ చేయబడింది. ఈ ఉత్పాదక ఖచ్చితత్వం సంక్లిష్టమైన సిస్టమ్‌లలో విలీనం చేయబడినప్పుడు విశ్వసనీయ పనితీరును నిర్ధారిస్తుంది మరియు సుదీర్ఘకాలం ఆపరేషన్ కోసం స్థిరమైన కార్యాచరణను కలిగి ఉంటుంది. SiC ఫిన్ అన్ని రియాక్టర్ డిజైన్‌లకు అనుకూలంగా ఉంటుంది మరియు కస్టమర్ అవసరాలను తీర్చడానికి వ్యాసం, మందం మరియు రంధ్ర నమూనాలో కస్టమ్‌గా తయారు చేయబడుతుంది. సెమికోరెక్స్ ఫ్లో రేట్, ఛాంబర్ జ్యామితి మరియు ఉష్ణోగ్రత వంటి ప్రాసెస్ వేరియబుల్స్ కోసం పనితీరును ఆప్టిమైజ్ చేయడానికి అనుకూల డిజైన్‌లను అందించగలదు.

దాని బహుముఖ కార్యాచరణతో పాటు, ఇతర పదార్థాలతో పోలిస్తే SiC ఫిన్ అసాధారణమైన మన్నిక మరియు దీర్ఘాయువును కలిగి ఉంది. ఇది ఆక్సీకరణ, ప్లాస్మా కోతకు మరియు రసాయన తుప్పుకు అధిక నిరోధకతను కలిగి ఉంటుంది, ఇది మీ భాగాలను భర్తీ చేసే ఫ్రీక్వెన్సీని తగ్గిస్తుంది మరియు సిస్టమ్ డౌన్ సమయాన్ని తగ్గిస్తుంది. అంతేకాకుండా, సిలికాన్ కార్బైడ్ యొక్క ఉష్ణ వాహకత పరికరంలో ఉష్ణ ప్రవణతలను నిర్వహించడానికి వేడిని వెదజల్లే సామర్థ్యాన్ని అనుమతిస్తుంది, శీఘ్ర ఉష్ణోగ్రత సైక్లింగ్ సమయంలో అవాంఛిత వార్పింగ్ లేదా పగుళ్లను నివారిస్తుంది.

సెమికోరెక్స్ ఆధునికతను ఉపయోగిస్తుందిసిరామిక్ఉత్పత్తి చేయబడిన SiC ఫిన్ యొక్క అత్యధిక స్వచ్ఛత మరియు స్థిరత్వాన్ని అందించడానికి ప్రాసెసింగ్ మరియు CVD పూత సామర్థ్యాలు. ప్రతి SiC ఫిన్ సాంద్రత, మైక్రోస్ట్రక్చర్ ఏకరూపత మరియు ఉపరితల పరిపూర్ణత కోసం కూడా తనిఖీ చేయబడుతుంది, ఇది సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమ యొక్క డిమాండ్ అవసరాలను తీరుస్తుంది. ఇది తీవ్ర వాతావరణంలో స్థిరమైన, దీర్ఘకాలిక ఆపరేషన్ కోసం యాంత్రిక సమగ్రత మరియు పటిష్టతను కలిగి ఉండే ఒక భాగంను కలిగిస్తుంది.

సెమికోరెక్స్ SiC ఫిన్ అనేది అత్యాధునిక మెటీరియల్స్ సైన్స్ మరియు ఇంజనీరింగ్ టెక్నాలజీ యొక్క ఫలితం. ఇది ప్రభావవంతమైన ఎగ్జాస్ట్ మరియు లిక్విడ్ ప్రవాహాలను తయారీదారులు చేయడమే కాకుండా, మొత్తం ఎపిటాక్సీ మరియు ఎచింగ్ సిస్టమ్స్ యొక్క శుభ్రత మరియు విశ్వసనీయతకు దోహదం చేస్తుంది. ఇది సెమీకండక్టర్ ప్రాసెసింగ్ అప్లికేషన్‌లకు మరింత స్థిరమైన అనుభవాన్ని అందించడానికి యాంత్రిక బలం, ఉష్ణ స్థిరత్వం మరియు తుప్పు దీర్ఘాయువును మిళితం చేస్తుంది.