SiC వేఫర్ చక్

SiC వేఫర్ చక్ యొక్క ప్రధాన భాగంలో ఒక అధునాతన పదార్థాల మిశ్రమం ఉంది, దాని బేస్ గ్రాఫైట్‌తో నిర్మించబడింది మరియు రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (CVD) SiCతో ఖచ్చితంగా పూత పూయబడింది. గ్రాఫైట్ మరియు SiC పూత యొక్క ఈ కలయిక అసాధారణమైన మన్నిక మరియు ఉష్ణ స్థిరత్వాన్ని నిర్ధారిస్తుంది కానీ కఠినమైన రసాయన వాతావరణాలకు అసమానమైన ప్రతిఘటనను అందిస్తుంది, తయారీ ప్రక్రియ అంతటా సున్నితమైన సెమీకండక్టర్ పొరల సమగ్రతను కాపాడుతుంది.

SiC పొర చక్ అసాధారణమైన ఉష్ణ వాహకతను కలిగి ఉంది, సెమీకండక్టర్ ఫాబ్రికేషన్ ప్రక్రియలో సమర్థవంతమైన ఉష్ణ వెదజల్లడాన్ని సులభతరం చేస్తుంది. ఈ సామర్ధ్యం పొర ఉపరితలం అంతటా థర్మల్ ప్రవణతలను తగ్గిస్తుంది, ఖచ్చితమైన సెమీకండక్టర్ లక్షణాలను సాధించడానికి కీలకమైన ఏకరీతి ఉష్ణోగ్రత పంపిణీని నిర్ధారిస్తుంది. CVD SiC పూత యొక్క ఏకీకరణ ద్వారా, SiC వేఫర్ చక్ గొప్ప యాంత్రిక బలం మరియు దృఢత్వాన్ని ప్రదర్శిస్తుంది, ఇది పొర ప్రాసెసింగ్ సమయంలో ఎదురయ్యే డిమాండ్ పరిస్థితులను తట్టుకోగలదు. ఈ దృఢత్వం వైకల్యం లేదా నష్టం ప్రమాదాన్ని తగ్గిస్తుంది, సెమీకండక్టర్ పొరల సమగ్రతను కాపాడుతుంది మరియు ఉత్పత్తి దిగుబడిని పెంచుతుంది.

ప్రతి SiC పొర చక్ ఖచ్చితమైన ఖచ్చితమైన మ్యాచింగ్‌కు లోనవుతుంది, దాని ఉపరితలం అంతటా గట్టి సహనం మరియు సరైన ఫ్లాట్‌నెస్‌కు హామీ ఇస్తుంది. చక్ మరియు సెమీకండక్టర్ పొర మధ్య ఏకరీతి సంబంధాన్ని సాధించడానికి, విశ్వసనీయ పొర బిగింపును సులభతరం చేయడానికి మరియు స్థిరమైన ప్రాసెసింగ్ ఫలితాలను నిర్ధారించడానికి ఈ ఖచ్చితత్వం కీలకం.

SiC పొర చక్ ఎపిటాక్సియల్ గ్రోత్, కెమికల్ ఆవిరి నిక్షేపణ (CVD) మరియు థర్మల్ ప్రాసెసింగ్‌తో సహా వివిధ సెమీకండక్టర్ తయారీ ప్రక్రియలలో విస్తృతమైన అప్లికేషన్‌ను కనుగొంటుంది. దీని బహుముఖ ప్రజ్ఞ మరియు విశ్వసనీయత క్లిష్టమైన కల్పన దశల సమయంలో SiC పొరలకు మద్దతు ఇవ్వడానికి ఇది ఎంతో అవసరం, చివరికి అసమానమైన పనితీరు మరియు విశ్వసనీయతతో అధునాతన సెమీకండక్టర్ పరికరాల ఉత్పత్తికి దోహదపడుతుంది.