సిలికాన్ కార్బైడ్ ICP ఎచింగ్ ప్లేట్

సిలికాన్ కార్బైడ్ ICP ఎచింగ్ ప్లేట్ఎచింగ్ ఆపరేషన్‌లలో వేఫర్‌లకు స్థిరమైన మద్దతు మరియు ఖచ్చితమైన స్థానాలను అందించడంలో సమర్థతను కలిగి ఉంటుంది, వైబ్రేషన్ లేదా డిస్‌ప్లేస్‌మెంట్ ద్వారా వచ్చే ఎచింగ్ ఖచ్చితత్వంలో తగ్గింపులను సమర్థవంతంగా నివారిస్తుంది.

సిలికాన్ కార్బైడ్ ICP ఎచింగ్ ప్లేట్ థర్మల్ మేనేజ్‌మెంట్ సామర్థ్యాలను కలిగి ఉంది. అత్యుత్తమ ఉష్ణ వాహకతSIC సిరామిక్సిలికాన్ కార్బైడ్ ICP ఎచింగ్ ప్లేట్ వేడిని త్వరగా వెదజల్లే సామర్థ్యాన్ని ఇస్తుంది, ఇది వర్క్‌పీస్ స్థానికంగా వేడెక్కడాన్ని నిరోధించడానికి మరియు చెక్కడం ఉష్ణోగ్రత యొక్క ఏకరూపతను నిర్ధారించడానికి సహాయపడుతుంది, తద్వారా ఎచింగ్ నాణ్యతను మెరుగుపరుస్తుంది. SiC సెరామిక్స్ ఉష్ణ విస్తరణ యొక్క తక్కువ గుణకం కలిగివుంటాయి, ఇది సిలికాన్ కార్బైడ్ ICP ఎచింగ్ ప్లేట్‌ను మంచి డైమెన్షనల్ స్థిరత్వాన్ని నిర్వహించడానికి మరియు థర్మల్ విస్తరణ వలన ఏర్పడే వర్క్‌పీస్ స్థానభ్రంశం లేదా వైకల్యాన్ని తగ్గించడానికి అనుమతిస్తుంది.

దాని అద్భుతమైన కాఠిన్యం మరియు బలం లక్షణాలపై ఆధారపడి, సిలికాన్ కార్బైడ్ ICP ఎచింగ్ ప్లేట్ తక్కువ వైకల్యం లేదా నష్టంతో చెక్కడం ప్రక్రియలో ఎదురయ్యే యాంత్రిక ఒత్తిడి మరియు ప్లాస్మా ప్రభావాన్ని తట్టుకోగల సామర్థ్యాన్ని చూపుతుంది. ఈ సామర్థ్యం సెమీకండక్టర్ పరికరాల దిగుబడి మరియు ఉత్పత్తి సామర్థ్యాన్ని సమర్థవంతంగా మెరుగుపరుస్తుంది.

ICP ఆపరేటింగ్ వాతావరణానికి సెమీకండక్టర్-స్థాయి శుభ్రత అవసరం. సెమికోరెక్స్ యొక్క సిలికాన్ కార్బైడ్ ICP ఎచింగ్ ప్లేట్ ఈ అవసరాన్ని పూర్తిగా తీర్చగలదు, ICP ఎచింగ్ పరిసరాలలోని రసాయన వాయువులకు (క్లోరిన్ మరియు ఫ్లోరిన్ వంటివి) మరియు ప్లాస్మాకు అసాధారణమైన ప్రతిఘటనను అందిస్తుంది. ఈ ముఖ్యమైన ఫీచర్ ఎచింగ్ ఆపరేషన్ల సమయంలో విడుదలయ్యే కలుషితాలను తగ్గించడం ద్వారా ప్రక్రియ వాతావరణాన్ని శుభ్రంగా ఉంచుతుంది.

ఎచింగ్ ఆపరేషన్‌లలో వేఫర్‌లకు స్థిరమైన మద్దతు మరియు ఖచ్చితమైన స్థానాలను అందించడంలో సమర్థతను కలిగి ఉంటుంది, వైబ్రేషన్ లేదా డిస్‌ప్లేస్‌మెంట్ ద్వారా వచ్చే ఎచింగ్ ఖచ్చితత్వంలో తగ్గింపులను సమర్థవంతంగా నివారిస్తుంది.