ఎపిటాక్సియల్ ప్రక్రియలో దిగువ బాఫిల్స్ కోసం రెండవ సగం భాగాలు

ఎపిటాక్సియల్ ప్రక్రియలో దిగువ బాఫిల్స్ కోసం రెండవ సగం భాగాలు విలక్షణమైన అర్ధ-స్థూపాకార ఆకారాన్ని కలిగి ఉంటాయి, వ్యూహాత్మకంగా ఎపిటాక్సియల్ రియాక్టర్‌లో గ్యాస్ ప్రవాహాన్ని ఆప్టిమైజ్ చేయడానికి రూపొందించబడ్డాయి. CVD SiC పూతలతో అధిక-నాణ్యత గ్రాఫైట్ నుండి రూపొందించబడిన ఈ భాగాలు అసాధారణమైన మన్నిక మరియు ఉష్ణ స్థిరత్వానికి హామీ ఇస్తాయి. సెమీకండక్టర్ తయారీ యొక్క కఠినతలను తట్టుకునేలా ఇంజనీర్ చేయబడినవి, అవి మీ పరికరాల దీర్ఘాయువు మరియు విశ్వసనీయతకు దోహదం చేస్తాయి.
ఎపిటాక్సియల్ గ్రోత్ ప్రాసెస్ సమయంలో పదార్థాల సమర్థవంతమైన పంపిణీ మరియు నిక్షేపణను నిర్ధారిస్తూ, గ్యాస్ ప్రవాహాన్ని ఆప్టిమైజ్ చేయడానికి భాగాలు సంక్లిష్టంగా రూపొందించబడ్డాయి. ఇది సెమీకండక్టర్ పొరలపై ఉన్నతమైన పొర నాణ్యతను కలిగిస్తుంది.

అప్లికేషన్లు:

సెమీకండక్టర్ తయారీలో ఎపిటాక్సియల్ రియాక్టర్ల కోసం రూపొందించబడింది.

ఖచ్చితమైన మరియు ఏకరీతి ఎపిటాక్సియల్ వృద్ధిని సాధించడానికి కీలకమైన భాగాలు.

మీ సెమీకండక్టర్ తయారీ సామర్థ్యాలను ఎపిటాక్సియల్ ప్రాసెస్‌లో లోయర్ బేఫిల్స్ కోసం మా రెండవ సగం భాగాలతో పెంచుకోండి. మెరుగైన మన్నిక కోసం CVD SiCతో పూత పూయబడిన మా సెమీ-స్థూపాకార భాగాల యొక్క ఆవిష్కరణ మరియు విశ్వసనీయతపై నమ్మకం. ఈ అధునాతన ఫిట్టింగ్‌లతో సెమీకండక్టర్ టెక్నాలజీలో ముందంజలో ఉండండి, సరైన పనితీరు మరియు స్థిరమైన ఎపిటాక్సియల్ లేయర్ నాణ్యతను నిర్ధారిస్తుంది. ఎపిటాక్సియల్ ప్రాసెస్‌లో లోయర్ బాఫిల్స్ కోసం సెకండ్ హాఫ్ పార్ట్‌లను ఎంచుకోండి-ఇక్కడ ఖచ్చితత్వం పురోగతికి అనుగుణంగా ఉంటుంది.