6 "పొర హోల్డర్లు

SEMICOREX 6 "SIC (సిలికాన్ కార్బైడ్) ఎపిటాక్సియల్ గ్రోత్ ప్రాసెస్‌ల యొక్క డిమాండ్ అవసరాలను తీర్చడానికి వేఫర్ హోల్డర్లు ప్రత్యేకంగా రూపొందించబడ్డాయి. అధిక-ఉష్ణోగ్రత, రసాయనికంగా రియాక్టివ్ పరిసరాలలో ఉపయోగం కోసం రూపొందించబడింది, ఈ హోల్డర్లు ఉన్నతమైన యాంత్రిక స్థిరత్వం, ఉష్ణ ఏకరూపత మరియు ప్రక్రియ విశ్వసనీయతను అందిస్తాయి, ఇవి అధునాతన SIC ఎపిటాక్సి అనువర్తనాలకు అవసరమైన భాగాన్ని అందిస్తాయి.

పొర తయారీ ప్రక్రియలో, పరికరాల తయారీని సులభతరం చేయడానికి కొన్ని పొరల ఉపరితలాలు ఎపిటాక్సియల్ పొరలను మరింత నిర్మించాల్సిన అవసరం ఉంది. విలక్షణ ఉదాహరణలలో LED లైట్-ఎమిటింగ్ పరికరాలు ఉన్నాయి, దీనికి సిలికాన్ ఉపరితలాలపై GAAS ఎపిటాక్సియల్ పొరల తయారీ అవసరం; SIC ఎపిటాక్సియల్ పొరలను అధిక వోల్టేజ్, అధిక కరెంట్ మరియు ఇతర విద్యుత్ అనువర్తనాల కోసం SBDS మరియు MOSFETS వంటి పరికరాలను నిర్మించడానికి వాహక SIC ఉపరితలాలపై పండిస్తారు; కమ్యూనికేషన్ మరియు ఇతర రేడియో ఫ్రీక్వెన్సీ అనువర్తనాల కోసం హెమ్ట్ మరియు ఇతర పరికరాలను మరింత నిర్మించడానికి GAN ఎపిటాక్సియల్ పొరలు సెమీ ఇన్సులేటింగ్ SIC ఉపరితలాలపై నిర్మించబడ్డాయి. ఈ ప్రక్రియ సివిడి పరికరాల నుండి విడదీయరానిది.

సివిడి పరికరాలలో, ఉపరితలాన్ని నేరుగా లోహంపై లేదా ఎపిటాక్సియల్ డిపాజిషన్ కోసం ఒక బేస్ మీద ఉంచలేము, ఎందుకంటే ఇది గ్యాస్ ప్రవాహ దిశ (క్షితిజ సమాంతర, నిలువు), ఉష్ణోగ్రత, పీడనం, స్థిరీకరణ మరియు పడిపోయే కలుషితాలు వంటి వివిధ అంశాలను కలిగి ఉంటుంది. అందువల్ల, ఒక బేస్ అవసరం, ఆపై ఉపరితలం ఒక ట్రేలో ఉంచబడుతుంది, ఆపై సివిడి టెక్నాలజీని ఉపయోగించి ఉపరితలంపై ఎపిటాక్సియల్ నిక్షేపణ జరుగుతుంది. ఈ బేస్ aSic- పూతగ్రాఫైట్ బేస్ (6 "పొర హోల్డర్లు).

6 "పొర హోల్డర్లు అద్భుతమైన థర్మల్ మేనేజ్‌మెంట్ కోసం ఆప్టిమైజ్ చేయబడతాయి, పొర ఉపరితలం అంతటా ఏకరీతి ఉష్ణ పంపిణీని నిర్ధారిస్తాయి.

మీరు SIC- ఆధారిత విద్యుత్ పరికరాల యొక్క పరిశోధన మరియు అభివృద్ధి లేదా పూర్తి స్థాయి ఉత్పత్తిని నిర్వహిస్తున్నా, మా 6 "పొర హోల్డర్లు మీ ప్రక్రియ సామర్థ్యాన్ని పెంచడానికి అవసరమైన బలమైన పనితీరు మరియు విశ్వసనీయతను అందిస్తారు. హోల్డర్ డిజైన్‌ను మీ ప్రత్యేకమైన సిస్టమ్ పారామితులకు అనుగుణంగా మార్చడానికి మేము అనుకూలీకరణ సేవలను కూడా అందిస్తున్నాము, ఎపిటాక్సియల్ WAFIR ఉత్పత్తిలో అత్యధిక ప్రమాణాలను సాధించడంలో మీకు సహాయపడుతుంది.