MOCVD కోసం సెమికోరెక్స్ SiC కోటెడ్ ప్లేట్ క్యారియర్స్ అనేది సెమీకండక్టర్ తయారీ ప్రక్రియలో ఉపయోగం కోసం రూపొందించబడిన అధిక-నాణ్యత క్యారియర్. దాని అధిక స్వచ్ఛత, అద్భుతమైన తుప్పు నిరోధకత మరియు థర్మల్ ప్రొఫైల్ కూడా సెమీకండక్టర్ తయారీ ప్రక్రియ యొక్క డిమాండ్లను తట్టుకోగల క్యారియర్ కోసం చూస్తున్న వారికి ఇది అద్భుతమైన ఎంపికగా చేస్తుంది.
MOCVD కోసం మా SiC కోటెడ్ ప్లేట్ క్యారియర్లు అధిక స్వచ్ఛతను కలిగి ఉంటాయి, ఇది అత్యంత ఏకరీతిగా మరియు దాని ప్రాపర్టీలలో స్థిరంగా ఉండే క్యారియర్ కోసం వెతుకుతున్న వారికి ఇది అద్భుతమైన ఎంపిక.
MOCVD కోసం మా SiC కోటెడ్ ప్లేట్ క్యారియర్లు గ్రాఫైట్పై అధిక-స్వచ్ఛత సిలికాన్ కార్బైడ్ పూతతో తయారు చేయబడ్డాయి, ఇది 1600°C వరకు అధిక ఉష్ణోగ్రతల వద్ద ఆక్సీకరణకు అధిక నిరోధకతను కలిగిస్తుంది. దాని తయారీలో ఉపయోగించే CVD రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ ప్రక్రియ అధిక స్వచ్ఛత మరియు అద్భుతమైన తుప్పు నిరోధకతను నిర్ధారిస్తుంది. ఇది దట్టమైన ఉపరితలం మరియు సూక్ష్మ కణాలతో అధిక తుప్పు-నిరోధకతను కలిగి ఉంటుంది, ఇది యాసిడ్, క్షార, ఉప్పు మరియు సేంద్రీయ కారకాలకు నిరోధకతను కలిగి ఉంటుంది. దీని అధిక-ఉష్ణోగ్రత ఆక్సీకరణ నిరోధకత 1600 ° C వరకు అధిక ఉష్ణోగ్రతల వద్ద స్థిరత్వాన్ని నిర్ధారిస్తుంది.
MOCVD కోసం SiC కోటెడ్ ప్లేట్ క్యారియర్ల పారామితులు
CVD-SIC కోటింగ్ యొక్క ప్రధాన లక్షణాలు |
||
SiC-CVD లక్షణాలు |
||
క్రిస్టల్ నిర్మాణం |
FCC β దశ |
|
సాంద్రత |
g/cm ³ |
3.21 |
కాఠిన్యం |
వికర్స్ కాఠిన్యం |
2500 |
ధాన్యం పరిమాణం |
μm |
2~10 |
రసాయన స్వచ్ఛత |
% |
99.99995 |
ఉష్ణ సామర్థ్యం |
J kg-1 K-1 |
640 |
సబ్లిమేషన్ ఉష్ణోగ్రత |
℃ |
2700 |
Felexural బలం |
MPa (RT 4-పాయింట్) |
415 |
యంగ్స్ మాడ్యులస్ |
Gpa (4pt బెండ్, 1300℃) |
430 |
థర్మల్ విస్తరణ (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
ఉష్ణ వాహకత |
(W/mK) |
300 |
MOCVD కోసం SiC కోటెడ్ గ్రాఫైట్ ససెప్టర్ యొక్క లక్షణాలు
- పై తొక్కను నివారించండి మరియు అన్ని ఉపరితలంపై పూత ఉండేలా చూసుకోండి
అధిక ఉష్ణోగ్రత ఆక్సీకరణ నిరోధకత: 1600 ° C వరకు అధిక ఉష్ణోగ్రతల వద్ద స్థిరంగా ఉంటుంది
అధిక స్వచ్ఛత: అధిక ఉష్ణోగ్రత క్లోరినేషన్ పరిస్థితుల్లో CVD రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ ద్వారా తయారు చేయబడింది.
తుప్పు నిరోధకత: అధిక కాఠిన్యం, దట్టమైన ఉపరితలం మరియు చక్కటి కణాలు.
తుప్పు నిరోధకత: యాసిడ్, క్షార, ఉప్పు మరియు సేంద్రీయ కారకాలు.
- ఉత్తమ లామినార్ గ్యాస్ ఫ్లో నమూనాను సాధించండి
- థర్మల్ ప్రొఫైల్ యొక్క సమానత్వానికి హామీ ఇవ్వండి
- ఏదైనా కాలుష్యం లేదా మలినాలు వ్యాప్తి చెందకుండా నిరోధించండి